[發明專利]一種合成含過渡金屬雜原子LTL結構分子篩的方法

有效

• 申請號: 201410137423.8
• 申請日: 2014-04-08
• 公開（公告）號: CN103936025A
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 吳鵬;薛凱;吳海虹
• 申請（專利權）人: 華東師范大學
• 主分類號: C01B39/32
• 分類號: C01B39/32;B01J29/63;B01J29/64
• 代理公司: 上海藍迪專利事務所 31215
• 代理人: 徐筱梅;張翔

1.一種合成含過渡金屬雜原子LTL結構分子篩的方法，其特征在于將雜原子金屬源與配位絡合劑、鋁源、氫氧化鉀、硅源和水按0.001～0.1：0.1～1.0:0.04～0.2:?0.7～1.2:?1.0:12～50原子摩爾比混合，攪拌均勻后在150～180?℃晶化反應24～72小時，反應液經抽濾、洗滌后在100～200?℃烘干，制得產物為含過渡金屬雜原子LTL結構的分子篩；

所述雜原子金屬源為鈧、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅的硝酸鹽、硫酸鹽、氯化鹽和乙酸鹽中的一種或二種以上的混合；

所述配位絡合劑為三乙醇胺、三乙醇胺鹽酸鹽、酒石酸、酒石酸鈉、草酸和檸檬酸中的一種或二種以上的混合；

所述鋁源為硝酸鋁、硫酸鋁、氯化鋁、偏鋁酸鈉、異丙醇鋁、氫氧化鋁或擬薄水鋁石；

所述硅源為發煙硅膠、硅溶膠溶液、水玻璃、柱層析硅膠、顆粒狀硅膠或粉末狀硅膠。