[發明專利]制造圖案化的透明導體的方法有效
| 申請號: | 201410125701.8 | 申請日: | 2014-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN104103336B | 公開(公告)日: | 2017-04-12 |
| 發明(設計)人: | J·朱;J·克拉拉克;S·費福爾特;M·巴席爾;P·特雷福納斯;G·康納瑞;K·M·奧康納 | 申請(專利權)人: | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號: | H01B1/02 | 分類號: | H01B1/02 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 陸蔚 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 圖案 透明 導體 方法 | ||
技術領域
本發明一般地涉及制備圖案化透明導體的領域。
背景技術
具有高導電性和高透明度的膜對于在寬范圍的電子應用中用作電極或涂層有重要價值,所述電子應用包括例如觸摸屏顯示器和光伏電池。用于這些應用的現有技術包括使用通過物理氣相沉積方法沉積的含摻錫氧化銦(ITO)的膜。物理氣相沉積法的高投資成本導致人們希望尋找替代的透明導電材料和涂覆方法。使用銀納米線分散成為滲透網已成為一種含ITO膜的有前景的替代方式。使用銀納米線可能具有適合使用卷對卷(roll?to?roll)技術進行加工的優點。因此,銀納米線具有低制造成本的優點以及與常規的含ITO膜相比能提供較高透明度和導電性的可能性。
在電容觸摸屏應用中,人們需要導電性的圖案。這些應用的一個關鍵難題在于,所形成的圖案必須是對人眼不可見的(或者幾乎是不可見的)。Allemand等人在美國專利第8,018,568號中公開了一種用來提供基于納米線的圖案化透明導體的方法。Allemand等人公開了一種光學均一的透明導體,其包括:基材;位于該基材上的導電膜,所述導電膜包括多個互連的納米結構,在所述導電膜上的圖案限定了以下區域:(1)具有第一電阻率、第一透射度(transmission)和第一霧度(haze)的未蝕刻區域,以及(2)具有第二電阻率、第二透射度和第二霧度的蝕刻區域;所述蝕刻區域的電導性小于未蝕刻的區域,所述第一電阻率與第二電阻率之比至少為1000;所述第一透射度與第二透射度之間的差異小于5%;所述第一霧度和第二霧度之間的差異小于0.5%。
需要注意的是,人們仍然需要用于制造具有導電性區域和非導電性區域的圖案化透明導體的替代方法,其中所述導電性區域和非導電性區域基本上無法通過人眼分辨。
發明內容
本發明提供了一種用于制造圖案化導體的方法,其包括:提供導電的基材(conductivised?substrate),其中所述導電的基材包括基材和導電層(electrically?conductive?layer);提供導電層蝕刻劑;提供紡絲材料(spinning?material);提供遮蔽纖維(masking?fiber)溶劑;形成大量遮蔽纖維并將該大量遮蔽纖維沉積在導電層上;任選地,將該大量遮蔽纖維壓制在導電層上;將導電層暴露在導電層蝕刻劑中,其中將未被該大量遮蔽纖維覆蓋的導電層從基材中去除,在由該大量遮蔽纖維覆蓋的基材上留下互相聯通的導電網絡;和將該大量遮蔽纖維暴露在遮蔽纖維溶劑中,除去所述大量遮蔽纖維以使基材上互相聯通的導電網絡不被覆蓋。
本發明提供了一種用于制造圖案化透明導體的方法,其包括:提供導電的透明基材,其中所述導電的透明基材包括透明基材和導電層;提供導電層蝕刻劑;提供紡絲材料;提供遮蔽纖維溶劑;形成大量遮蔽纖維并將該大量遮蔽纖維沉積在導電層上;任選地,將該大量遮蔽纖維壓制在導電層上;將導電層暴露在導電層蝕刻劑中,其中將未被該大量遮蔽纖維覆蓋的導電層從基材中去除,在由該大量遮蔽纖維覆蓋的基材上留下互相聯通的導電網絡;和將該大量遮蔽纖維暴露在遮蔽纖維溶劑中,除去所述大量遮蔽纖維以使基材上互相聯通的導電網絡不被覆蓋。
本發明提供了一種用于制造圖案化透明導體的方法,其包括:提供導電的透明基材,其中所述導電的透明基材包括透明基材和導電層,其中該導電層是導電金屬層;提供導電層蝕刻劑;提供紡絲材料;提供遮蔽纖維溶劑;形成大量遮蔽纖維并將該大量遮蔽纖維沉積在導電層上;任選地,將該大量遮蔽纖維壓制在導電層上;將導電層暴露在導電層蝕刻劑中,其中將未被該大量遮蔽纖維覆蓋的導電層從基材中去除,在由該大量遮蔽纖維覆蓋的基材上留下互相聯通的導電網絡;和將該大量遮蔽纖維暴露在遮蔽纖維溶劑中,除去所述大量遮蔽纖維以使基材上互相聯通的導電網絡不被覆蓋。
本發明提供了一種用于制造圖案化透明導體的方法,其包括:提供導電的透明基材,其中所述導電的透明基材包括透明基材和導電層;提供導電層蝕刻劑;提供紡絲材料;提供遮蔽纖維溶劑;形成大量遮蔽纖維并將該大量遮蔽纖維沉積在導電層上,其中該大量遮蔽纖維通過選自以下的方法形成并沉積在導電層上:靜電紡絲、熔噴、氣體射流紡絲、氣體射流靜電紡絲、離心紡絲、無針靜電紡絲、和熔融靜電紡絲;任選地,將該大量遮蔽纖維壓制在導電層上;將導電層暴露在導電層蝕刻劑中,其中將未被該大量遮蔽纖維覆蓋的導電層從基材中去除,在由該大量遮蔽纖維覆蓋的基材上留下互相聯通的導電網絡;和,將該大量遮蔽纖維暴露在遮蔽纖維溶劑中,除去所述大量遮蔽纖維以使基材上互相聯通的導電網絡不被覆蓋。
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