[發(fā)明專利]新型倒裝高壓芯片外延片無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410123492.3 | 申請日: | 2014-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN103872195A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳起偉;施榮華;孫智江;羅建華 | 申請(專利權(quán))人: | 海迪科(南通)光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/48;H01L33/58 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 226500 江蘇省南通市如*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 新型 倒裝 高壓 芯片 外延 | ||
1.一種新型倒裝高壓芯片外延片,其特征在于:包括多個(gè)LED芯片單元,各個(gè)LED芯片單元之間設(shè)置切割溝槽(11)相隔離,每個(gè)所述的LED芯片單元包括一個(gè)獨(dú)立的LED芯片器件,該LED芯片器件包括依次設(shè)置的藍(lán)寶石襯底(1)、n-GaN層(2)、多層量子阱層(3)、p-GaN層(4),所述的n-GaN層(2)上形成有n型電極(6),所述的p-GaN層(4)上形成有p型電極(12),外延片的頂部覆蓋有絕緣熒光層(7),所述的絕緣熒光層(7)填充于切割溝槽(11)內(nèi)、僅將用于與外部電連接的n型電極(6)與p型電極(12)露出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型倒裝高壓芯片外延片,其特征在于:所述的p-GaN層(4)與p型電極(12)之間設(shè)置有透明電極層(5)。
3.一種新型倒裝高壓芯片外延片,其特征在于:包括多個(gè)LED芯片單元,各個(gè)LED芯片單元之間設(shè)置切割溝槽(11)相隔離,每個(gè)所述的LED芯片單元包括多個(gè)互連的LED芯片器件,各個(gè)LED芯片器件之間設(shè)置隔離溝槽(10)相隔離,每個(gè)LED芯片器件包括依次設(shè)置的藍(lán)寶石襯底(1)、n-GaN層(2)、多層量子阱層(3)、p-GaN層(4),所述的n-GaN層(2)上形成有n型電極(6),所述的p-GaN層(4)上形成有p型電極(12),各個(gè)LED芯片器件之間的n型電極(6)、p型電極(12)以預(yù)定連接方式通過互連線路(13)相互連通,外延片的頂部覆蓋有絕緣熒光層(7),所述的絕緣熒光層(7)填充于隔離溝槽(10)與切割溝槽(11)內(nèi)、僅將預(yù)留的與外部電連接的n型電極(6)與p型電極(12)露出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的新型倒裝高壓芯片外延片,其特征在于:所述的p-GaN層(4)與p型電極(12)之間設(shè)置有透明電極層(5)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的新型倒裝高壓芯片外延片,其特征在于:所述的絕緣熒光層(7)覆蓋于互連線路(13)上。
6.一種新型倒裝高壓芯片的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
S1:在藍(lán)寶石襯底(1)上依次制備n-GaN層(2)、多層量子阱層(3)、p-GaN層(4),所述的n-GaN層(2)上形成有n型電極(6),所述的p-GaN層(4)上形成有p型電極(12),通過設(shè)置隔離溝槽(10)形成多個(gè)獨(dú)立的LED芯片器件;
S2:?將各個(gè)LED芯片器件之間的n型電極(6)、p型電極(12)以預(yù)定連接方式通過互連線路(13)相互連通,從而在外延片上形成多個(gè)LED芯片單元,各個(gè)LED芯片單元之間通過切割溝槽(11)相隔離;
S3:?在外延片的頂部覆蓋一層絕緣熒光層(7),所述的絕緣熒光層(7)填充于隔離溝槽(10)與切割溝槽(11)內(nèi)、僅將預(yù)留的與外部電連接的n型電極(6)與p型電極(12)露出;
S4:沿切割溝槽(11)將各個(gè)LED芯片單元切割分離。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的新型倒裝高壓芯片的制備方法,其特征在于:在所述的p-GaN層(4)與p型電極(12)之間設(shè)置透明電極層(5)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的新型倒裝高壓芯片的制備方法,其特征在于:所述的絕緣熒光層(7)由絕緣材料和熒光材料制備而成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的新型倒裝高壓芯片的制備方法,其特征在于:所述的絕緣熒光層(7)由絕緣材料和熒光材料通過溶膠-凝膠工藝制備而成。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的新型倒裝高壓芯片的制備方法,其特征在于:所述的絕緣材料包括SiO2。
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