[發(fā)明專利]半導(dǎo)體設(shè)備工藝加工異常處理的方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410119427.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104952761B | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李娟娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 李芙蓉 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體設(shè)備 工藝 加工 異常 處理 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝加工異常處理的方法及系統(tǒng)。其中方法包括如下步驟:檢測(cè)工藝加工過程是否出現(xiàn)異常;當(dāng)工藝加工過程出現(xiàn)異常時(shí),停止當(dāng)前工藝步驟,并拋出阻塞型報(bào)警;根據(jù)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式執(zhí)行相應(yīng)的操作;其中預(yù)設(shè)異常處理模式為多個(gè),不同的預(yù)設(shè)異常處理模式包括不同的操作步驟組合。其改變了傳統(tǒng)技術(shù)中必須由工藝加工人員手動(dòng)處理的單一模式,提高了工藝異常后的操作流程的自動(dòng)性和方便性,同時(shí)能夠避免不必要的人為錯(cuò)誤。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝加工異常處理的方法系統(tǒng)。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體集成電路工藝過程變得越來越復(fù)雜,物料成本越來越高,對(duì)于生產(chǎn)過程中工藝過程發(fā)生異常后的處理方法的要求也越來越嚴(yán)格,不僅要求工藝異常后能盡量保證物料不被廢棄,還要讓工藝人員更容易方便的對(duì)工藝異常后的物料做進(jìn)一步處理從而完成該物料的加工。
在工藝執(zhí)行過程中出現(xiàn)異常時(shí),傳統(tǒng)的解決方案是結(jié)束工藝并拋出提示性報(bào)警,由工藝人員根據(jù)實(shí)際情況對(duì)后續(xù)步驟做手動(dòng)處理,如手動(dòng)編輯新的recipe并把未完成的工藝執(zhí)行完成,或直接手動(dòng)傳出物料等。而實(shí)際生產(chǎn)過程中,導(dǎo)致工藝執(zhí)行失敗的情況有很多種,后續(xù)處理也各有不同,比如某些情況下可以繼續(xù)執(zhí)行等等,而傳統(tǒng)技術(shù)中都統(tǒng)一處理為結(jié)束工藝;對(duì)于可以補(bǔ)救的物料,只能手動(dòng)重新編寫工藝表單(recipe),重新執(zhí)行工藝,缺少方便性,且影響生產(chǎn)效率。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要提供一種能夠有效解決工藝生產(chǎn)中異常處理方便性差,阻礙生產(chǎn)效率提高的問題的半導(dǎo)體設(shè)備工藝加工異常處理的方法及系統(tǒng)。
為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的提供的一種半導(dǎo)體設(shè)備工藝加工異常處理的方法,包括以下步驟:
檢測(cè)工藝加工過程是否出現(xiàn)異常;
當(dāng)所述工藝加工過程出現(xiàn)異常時(shí),停止當(dāng)前工藝步驟,并拋出阻塞型報(bào)警;
根據(jù)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式執(zhí)行相應(yīng)的操作;
所述預(yù)設(shè)異常處理模式為多個(gè),不同的所述預(yù)設(shè)異常處理模式包括不同的操作步驟組合。
作為半導(dǎo)體設(shè)備工藝加工異常處理的方法的一種可實(shí)施方式,所述預(yù)設(shè)異常處理模式包括第一預(yù)設(shè)異常處理模式,第二預(yù)設(shè)異常處理模式,第三預(yù)設(shè)異常處理模式,第四預(yù)設(shè)異常處理模式,第五預(yù)設(shè)異常處理模式,第六預(yù)設(shè)異常處理模式,第七預(yù)設(shè)異常處理模式,第八預(yù)設(shè)異常處理模式,第九預(yù)設(shè)異常處理模式,以及第十預(yù)設(shè)異常處理模式中的一種以上的組合;
所述根據(jù)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式執(zhí)行相應(yīng)的操作,包括以下步驟:
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第一預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制繼續(xù)執(zhí)行工藝表單中的下一工藝步驟;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第二預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制重新執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第三預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制繼續(xù)執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第四預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制停止工藝加工過程,等待處理;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第五預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制執(zhí)行解除卡盤吸附的工藝步驟,并按工藝過程正常結(jié)束傳出物料;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第六預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制執(zhí)行解除卡盤吸附的工藝步驟,并按指定路徑傳出物料;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第七預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制執(zhí)行解除卡盤吸附的工藝步驟,并將物料直接傳輸回原點(diǎn);
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第八預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制按工藝過程正常結(jié)束傳出物料;
當(dāng)所選擇的預(yù)設(shè)異常處理模式為第九預(yù)設(shè)異常處理模式時(shí),控制按指定路徑傳出物料;
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H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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