[發明專利]保持器、光刻裝置、平臺裝置以及制造物品的方法

有效

• 申請號: 201410118166.3
• 申請日: 2014-03-27
• 公開（公告）號: CN104102093B
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 神谷重雄
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 柳愛國

技術領域

本發明涉及一種保持器、一種光刻裝置以及一種制造物品的方法。

背景技術

隨著半導體設備朝著更高的密度和微粉化程度的發展，用于制造它們的曝光裝置已經提升了投影光學系統的數值孔徑(NA)。隨著投影光學系統的NA提升，曝光裝置的分辨能力提高，但是焦距的有效深度降低。因此，曝光裝置需要保持具有高平直度的基質，日本專利申請公開No.2004-140071提出了一種相關技術。

另外，為了獲得較高生產率，曝光裝置的處理量提高，例如，需要具有提高加速度的、用于保持基質的平臺。實現平臺的高加速度的一種方法是降低平臺的重量，并且試圖減小夾緊和保持基質的保持器(夾具)的重量。

不過，隨著使保持器變得更薄以降低平臺的重量，保持器自身的剛性降低。因此，保持器自身的撓曲影響基質的平面校正性能。

發明內容

本發明例如提供了一種保持器，該保持器提高了由它保持的基質的平直度。

根據本發明的第一方面，提供了一種用于保持基質的保持器，該保持器包括：基部，該基部將由臺板接收，該基部包括：第一表面，該第一表面布置成接收要由保持器保持的基質；以第二表面，該第二表面與第一表面相反地布置；第一支撐件，該第一支撐件提供于第二表面上、布置成包圍形成于基部中的通孔并且構造成接觸臺板；第二支撐件，該第二支撐件提供于第二表面上并且布置成包圍第一支撐件并接觸臺板；以及多個第一銷，這些第一銷提供于第二表面的、在第二支撐件與基部的外邊緣之間的區域中，并且布置成接觸臺板。

根據本發明的第二方面，提供了一種光刻裝置，用于在基質上形成圖形，該光刻裝置包括上述保持器，以便保持基質。

根據本發明的第三方面，提供了一種制造物品的方法，該方法包括：使用光刻裝置在基質上形成圖形；以及處理其上已形成有圖形的基質，以制造所述物品，其中，光刻裝置包括構造成保持基質的保持器，該保持器包括：基部，該基部將由臺板接收，該基部包括：第一表面，該第一表面布置成接收要由保持器保持的基質；以第二表面，該第二表面與第一表面相反地布置；第一支撐件，該第一支撐件提供于第二表面上、布置成包圍形成于基部中的通孔并且構造成接觸臺板；第二支撐件，該第二支撐件提供于第二表面上并且布置成包圍第一支撐件并接觸臺板；以及多個第一銷，這些第一銷提供于第二表面的、在第二支撐件與基部的外邊緣之間的區域中，并且布置成接觸臺板。

通過下面參考附圖對實施例的說明，將清楚本發明的其它方面。下面所述的本發明各實施例能夠單獨地實施，或者在需要時或者當來自各個實施例的元件或特征組合在單個實施例中很有利時以多個實施例或者其特征的組合的方式實施。

附圖說明

圖1是示出根據本發明一個方面的光刻裝置的布置的示意圖。

圖2是示出根據第一實施例的基質平臺的布置的剖視圖。

圖3是示出根據第一實施例的基質平臺的布置的平面圖。

圖4是示出根據第二實施例的基質平臺的布置的剖視圖。

圖5是示出根據第二實施例的基質平臺的布置的平面圖。

具體實施方式

下面將參考附圖介紹本發明的優選實施例。應當知道，在全部附圖中，相同參考標號表示相同部件，并將不會進行重復說明。

圖1是示出根據本發明一個方面的光刻裝置1的布置的示意圖。光刻裝置1是在基質上形成(轉印)圖形的裝置。在本實施例中，光刻裝置1被實施為曝光裝置，該曝光裝置經由投影光學系統而使得基質曝光，并在基質上形成圖形。不過，光刻裝置1并不局限于曝光裝置。例如，光刻裝置1可以是繪圖裝置，它使用帶電粒子束(例如電子束或離子束)經由帶電粒子光學系統而在基質上繪圖和形成圖形。光刻裝置1可以是壓印裝置，它使用模具模制基質上的壓印材料(例如樹脂)，并在基質上形成圖形。

如圖1中所示，光刻裝置1包括照明光學系統102、保持標線片104的標線片平臺(未示出)、投影光學系統106和保持基質108的基質平臺110。

在光刻裝置1中，來自光源(未示出)的光經由照明光學系統102而照射保持在標線片平臺上的標線片104。已經經過標線片104的光經由投影光學系統106而照射基質108(也就是，標線片104的圖形的圖像形成于基質108上)?；|平臺110是保持裝置，它能夠在保持基質108的同時運動，并包括保持器(夾具)112和平臺板114，保持器112布置在該平臺板114上。下面將在各個實施例中介紹基質平臺110的詳細結構。

<第一實施例>