[發明專利]保持器、光刻裝置、平臺裝置以及制造物品的方法

有效

• 申請號: 201410118166.3
• 申請日: 2014-03-27
• 公開（公告）號: CN104102093B
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 神谷重雄
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 柳愛國

1.一種用于保持基質的保持器，該保持器包括：

基部，包括：第一表面，該第一表面是要由保持器保持的基質要傳遞到的一側；第二表面，該第二表面與第一表面相反地布置；以及通孔；

第一支撐件，該第一支撐件形成于第二表面上、布置成包圍所述通孔并且構造成接觸臺板；

第二支撐件，該第二支撐件具有連續周向形狀，形成于第二表面上并且布置成包圍第一支撐件并接觸臺板；以及

多個第一銷，這些第一銷形成于第二表面的、在第二支撐件與基部的外邊緣之間的區域中，并且布置成接觸臺板。

2.根據權利要求1所述的保持器，還包括：具有周向形狀的第三支撐件，該第三支撐件形成于第一表面上，并且能夠支撐基質；

其中，第三支撐件以與第二支撐件至少部分地重疊的方式布置。

3.根據權利要求2所述的保持器，其中：第三支撐件布置成使得該第三支撐件與第二支撐件整體重疊。

4.根據權利要求2或3所述的保持器，還包括：多個第二銷，這些第二銷形成于第一表面的、在所述第三支撐件與基部的外邊緣之間的區域中，并布置成接觸要保持的基質；

所述多個第二銷均布置成至少部分地與第二表面上的多個第一銷中的相應一個重疊。

5.根據權利要求4所述的保持器，其中：所述多個第二銷均布置成與所述多個第一銷中的相應一個整體重疊。

6.根據權利要求1所述的保持器，還包括：具有周向形狀的第三支撐件，該第三支撐件形成于第一表面上，并且能夠支撐基質；

其中，第三支撐件形成于第一表面的、在基部的外邊緣與第一表面的在第二支撐件上方的區域之間的區域中。

7.根據權利要求6所述的保持器，其中：第三支撐件是形成于第一表面上并且布置成與要保持的基質接觸的所有部分當中的最外側部分。

8.一種光刻裝置，用于在基質上形成圖形，該光刻裝置包括：

如權利要求1中所述的保持器，以保持基質。

9.根據權利要求8所述的光刻裝置，還包括：投影光學系統，

其中，通過由投影光學系統使基質暴露于輻射束，從而在要保持的基質上形成圖形。

10.一種制造物品的方法，該方法包括：

使用光刻裝置在基質上形成圖形；以及

處理其上已形成有圖形的基質，以制造所述物品，

其中，所述光刻裝置包括構造成保持基質的保持器，

該保持器包括：

基部，包括：第一表面，該第一表面是要由保持器保持的基質要傳遞到的一側；第二表面，該第二表面與第一表面相反地布置；以及通孔；

第一支撐件，該第一支撐件形成于第二表面上、布置成包圍所述通孔并且構造成接觸臺板；

第二支撐件，該第二支撐件具有連續周向形狀，形成于第二表面上并且布置成包圍第一支撐件并接觸臺板；以及

多個第一銷，這些第一銷形成于第二表面的、在第二支撐件與基部的外邊緣之間的區域中，并且布置成接觸臺板。

11.一種平臺裝置，所述平臺裝置可動并且包括：

根據權利要求2所述的保持器；以及

排空系統，所述排空系統構造成在第三支撐件與基質接觸的同時排空基質和第一表面之間的空間。

12.一種平臺裝置，所述平臺裝置包括：

根據權利要求6所述的保持器；以及

排空系統，所述排空系統構造成在第三支撐件與基質接觸的同時排空基質和第一表面之間的空間。