[發(fā)明專利]一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410117033.4
• 申請(qǐng)日: 2014-03-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103911599A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王謙;董杰;楊曉東;何小強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤指一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置。

背景技術(shù)

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition，PECVD）裝置的開(kāi)發(fā)和使用日益廣泛。目前，PECVD裝置主要在太陽(yáng)能電池行業(yè)、半導(dǎo)體器件及大規(guī)模集成電路的制造行業(yè)中被廣泛使用，PECVD裝置是利用強(qiáng)電場(chǎng)或磁場(chǎng)使所需的氣體源分子電離產(chǎn)生等離子體，由于等離子體化學(xué)活性強(qiáng)、容易發(fā)生反應(yīng)，因此可以在基板上沉積出所期望的薄膜。

目前，現(xiàn)有的PECVD裝置的主要結(jié)構(gòu)如圖1所示，包括密閉的反應(yīng)腔01，位于反應(yīng)腔01正上方的遮擋蓋02，位于遮擋蓋02之上且與遮擋蓋02構(gòu)成密閉空間的維護(hù)盒03，位于維護(hù)盒03的密閉空間內(nèi)的連接部04，位于維護(hù)盒03上方的反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿05，用于固定連接遮擋蓋02與連接部04和反應(yīng)腔01、貫穿遮擋蓋02和連接部04且旋擰于反應(yīng)腔01頂部的螺桿06，用于固定連接反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿05與連接部04、貫穿反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿05和維護(hù)盒03頂部且底端旋擰于連接部04內(nèi)的連接螺桿07，用于固定維護(hù)盒03與連接部04且密封維護(hù)盒03的第一螺母08，以及用于固定連接螺桿07與反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿05的第二螺母09。其中，反應(yīng)腔01中設(shè)置有相對(duì)設(shè)置的用于產(chǎn)生高能量的交頻電場(chǎng)的上部電極01a和下部電極01b。

上述結(jié)構(gòu)的PECVD裝置在工作時(shí)，PECVD裝置所使用的高頻電（RF?Power）A通過(guò)位于維護(hù)盒03中的銅片（圖1中未示出）傳導(dǎo)到反應(yīng)腔中的上部電極01a，使上部電極01a與下部電極01b之間形成的高能量的交頻電場(chǎng)，從而完成PECVD工藝。但是，在上述PECVD裝置在工作時(shí)，用于密封維護(hù)盒03的過(guò)孔的第一螺母08時(shí)間長(zhǎng)了會(huì)發(fā)生松動(dòng)，從而在第一螺母08處會(huì)產(chǎn)生射頻泄露以及擊穿，由于圖1中虛線框所標(biāo)的區(qū)域?yàn)槿藛T經(jīng)常接觸的區(qū)域，因此如果第一螺母08處產(chǎn)生射頻泄露以及擊穿，很可能會(huì)造成人員受傷。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置，用以避免維護(hù)盒的頂蓋發(fā)生射頻泄露和擊穿，從而避免了出現(xiàn)人員受傷害的危險(xiǎn)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置，包括反應(yīng)腔、位于所述反應(yīng)腔上方且與所述反應(yīng)腔固定連接的遮擋蓋、位于所述遮擋蓋之上且與所述遮擋蓋構(gòu)成密閉空間的維護(hù)盒，位于所述密閉空間內(nèi)且與所述遮擋蓋固定連接的連接部，以及位于所述維護(hù)盒上方且通過(guò)連接桿與所述維護(hù)盒固定連接的反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿；

所述維護(hù)盒具體包括頂蓋以及與所述頂蓋固定連接的盒體；

與所述反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿固定的所述連接桿位于所述封閉空間之外且與所述維護(hù)盒的頂蓋固定連接；

所述維護(hù)盒的頂蓋與所述連接部固定連接。

本發(fā)明實(shí)施例提供的上述等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置，包括反應(yīng)腔、位于反應(yīng)腔上方且與反應(yīng)腔固定連接的遮擋蓋、位于遮擋蓋之上且與遮擋蓋構(gòu)成密閉空間的維護(hù)盒，位于密閉空間內(nèi)且與遮擋蓋固定連接的連接部，以及位于維護(hù)盒上方且通過(guò)連接桿與維護(hù)盒固定連接的反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿；維護(hù)盒具體包括頂蓋以及與頂蓋固定連接的盒體；與反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿固定的連接桿位于封閉空間之外且與維護(hù)盒的頂蓋固定連接；維護(hù)盒的頂蓋與連接部固定連接。由于在該等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置中，維護(hù)盒具體包括頂蓋以及與頂蓋固定連接的盒體，因此與反應(yīng)腔蓋加強(qiáng)桿固定的連接桿可以在維護(hù)盒的封閉空間之外與維護(hù)盒的頂蓋固定連接，從而可以避免在維護(hù)盒的頂部發(fā)生射頻泄露和擊穿的問(wèn)題，進(jìn)而避免出現(xiàn)人員受傷害的危險(xiǎn)。

較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置中，所述維護(hù)盒的頂蓋與所述連接桿通過(guò)螺紋連接的方式固定連接。

較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置中，所述維護(hù)盒的頂蓋背向所述連接部的一側(cè)具有凹型的螺紋口，所述連接桿的底端具有與所述螺紋口相匹配的螺紋，所述連接桿通過(guò)底端旋擰于所述螺紋口與所述維護(hù)盒固定。

較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置中，所述連接桿的底端具有凹型的螺紋口，所述維護(hù)盒的頂部背向所述連接部的一側(cè)具有延伸部，所述延伸部為具有與所述螺紋口相匹配的螺紋的螺桿，所述連接桿通過(guò)所述延伸部旋擰于所述螺紋口與所述維護(hù)盒固定。

較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置中，所述維護(hù)盒的頂蓋與所述連接部通過(guò)連接件固定連接。