[發明專利]一種等離子體增強化學氣相沉積裝置有效
| 申請號: | 201410117033.4 | 申請日: | 2014-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN103911599A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | 王謙;董杰;楊曉東;何小強 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子體 增強 化學 沉積 裝置 | ||
1.一種等離子體增強化學氣相沉積裝置,包括反應腔、位于所述反應腔上方且與所述反應腔固定連接的遮擋蓋、位于所述遮擋蓋之上且與所述遮擋蓋構成密閉空間的維護盒,位于所述密閉空間內且與所述遮擋蓋固定連接的連接部,以及位于所述維護盒上方且通過連接桿與所述維護盒固定連接的反應腔蓋加強桿,其特征在于:
所述維護盒具體包括頂蓋以及與所述頂蓋固定連接的盒體;
與所述反應腔蓋加強桿固定的所述連接桿位于所述封閉空間之外且與所述維護盒的頂蓋固定連接;
所述維護盒的頂蓋與所述連接部固定連接。
2.如權利要求1所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述維護盒的頂蓋與所述連接桿通過螺紋連接的方式固定連接。
3.如權利要求2所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于:
所述維護盒的頂蓋背向所述連接部的一側具有凹型的螺紋口,所述連接桿的底端具有與所述螺紋口相匹配的螺紋,所述連接桿通過底端旋擰于所述螺紋口與所述維護盒固定。
4.如權利要求2所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于:
所述連接桿的底端具有凹型的螺紋口,所述維護盒的頂部背向所述連接部的一側具有延伸部,所述延伸部為具有與所述螺紋口相匹配的螺紋的螺桿,所述連接桿通過所述延伸部旋擰于所述螺紋口與所述維護盒固定。
5.如權利要求1-4任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述維護盒的頂蓋與所述連接部通過連接件固定連接。
6.如權利要求5所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述連接件具體包括:
所述維護盒的頂蓋面向所述連接部一側延伸的具有螺紋的第一螺桿,所述連接部面向所述維護盒頂蓋一側延伸的具有螺紋的第二螺桿;以及旋擰在所述第一螺桿和所述第二螺桿上的螺母。
7.如權利要求1-4任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述維護盒的頂蓋與盒體通過螺絲固定連接。
8.如權利要求1-4任一項所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,所述反應腔、所述連接部和所述遮擋蓋通過貫穿所述連接部和所述遮擋蓋且底端旋擰于所述反應腔頂部的第三螺桿固定連接。
9.如權利要求8所述的等離子體增強化學氣相沉積裝置,其特征在于,還包括:包覆于裸露在所述連接部上方的所述第三螺桿的絕緣套筒。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





