[發明專利]一種高真空磁控軸瓦濺鍍機

有效

• 申請號: 201410107256.2
• 申請日: 2014-03-21
• 公開（公告）號: CN104928634B
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: 木儉樸
• 申請（專利權）人: 煙臺大豐軸瓦有限責任公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 煙臺上禾知識產權代理事務所(普通合伙)37234
• 代理人: 劉志毅

技術領域

本發明涉及濺渡裝置，尤其涉及一種高真空磁控軸瓦濺鍍機。

背景技術

目前標準軸瓦都分為四層：鋼背，燒結在鋼背上的銅基合金，鎳柵層，減磨合金層，通常加工標準軸瓦的方法是：1、先制造鋼背，2、在鋼背上燒結或澆筑銅基合金層，3、再在將鎳柵層電鍍于銅基合金層上，4、再送入濺鍍設備內濺鍍減磨合金層，這種方法缺點是：方法步驟中包含電鍍方式，屬于污染嚴重且對人體傷害較大的加工方法，另一種加工標準軸瓦的方法是：1、先制造鋼背，2、在鋼背上燒結或澆筑銅基合金層，3、將該軸瓦基體送入濺鍍設備分層濺鍍鎳柵層和減磨合金層，本方法是安全環保的，但缺點是由于要濺鍍兩層(鎳柵層和減磨合金層)，受目前濺鍍設備的限制，因此在濺鍍完鎳柵層后要降溫冷卻后更換鎳靶換成合金材料靶，這種濺鍍方式受降溫以及更換靶材等步驟制約，產量、效率很低。

發明內容

針對上述問題，本發明提供了一種高真空磁控軸瓦濺鍍機。

為解決上述技術問題，本發明所采用的技術方案是：提供了一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，包括濺渡殼體，濺渡殼體內設有濺渡腔，所述濺渡腔設有濺射靶和軸瓦支撐架，所述濺渡殼體底部設有底座，所述底座上設有濺射靶架旋轉軸，所述濺射靶架旋轉軸固定設有用來活動放置濺射靶的濺射靶支撐架，所述所述濺射靶為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，所述濺射靶支撐架中間固定連接有濺射靶架旋轉軸，兩側邊緣為方便濺射靶支撐架之間互相配合的凹凸鋸齒狀，所述軸瓦支撐架包括軸瓦支架旋轉軸和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸上用來懸掛軸瓦的掛柱。

進一步地，在所述底座下方設有電機，所述濺射靶架旋轉軸6和軸瓦支架旋轉軸各獨自連接一個電機。

進一步地，所述軸瓦支架旋轉軸表面設有多個螺紋孔，所述掛柱尾端設有與螺紋孔配合的牙，所述掛柱中間半徑小于首段半徑。

進一步地，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸由一個擋板和擋板兩側邊緣各垂直緊靠一個濺射靶支撐架以及濺渡殼體圍繞著，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸轉向相反，所述濺射靶架旋轉軸轉向為順時針。

進一步地，所述濺渡殼體頂部設置有液壓裝置，所述液壓裝置通過圓桿貫穿濺渡殼體頂面連接一個設置在濺渡殼體內部的圓形密封蓋。

由上述對本發明結構的描述可知，和現有技術相比，本發明具有如下優點：

1.本種濺鍍方式是安全環保的，通過兩面靶，解決以往受降溫以及更換靶材等步驟制約，增加了工作產量、提高了效率。

2.掛柱活動連接在軸瓦支架旋轉軸上，選擇不同大小不同尺寸的掛柱以適應不同尺寸規格軸瓦的要求，這樣就避免了對不同軸瓦麻煩。

附圖說明

構成本申請的一部分的附圖用來提供對本發明的進一步理解，本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：

圖1為本發明一種高真空磁控軸瓦濺鍍機整體構示意圖；

圖2為本發明軸瓦支撐架的軸瓦支架旋轉軸和掛柱結構示意圖。

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

實施例

通過參考圖1和圖2，一種高真空磁控軸瓦濺鍍機，包括濺渡殼體1，濺渡殼體1內設有濺渡腔8，所述濺渡腔8設有濺射靶2和軸瓦支撐架4，所述濺渡殼體1底部設有底座7，所述底座7上設有濺射靶架旋轉軸6，所述濺射靶架旋轉軸6固定設有用來活動放置濺射靶2的濺射靶支撐架3，所述所述濺射靶2為雙面靶，正面為鎳靶、背面為合金靶，所述濺射靶支撐架3中間固定連接有濺射靶架旋轉軸6，兩側邊緣為凹凸鋸齒狀，在所述底座7上還設有擋板10，所述擋板邊緣設有與濺射靶支撐架3兩側邊緣為凹凸鋸齒狀配合的凹凸鋸齒狀，所述軸瓦支撐架4包括軸瓦支架旋轉軸5和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸5上用來懸掛軸瓦的掛柱9，在所述底座7下方設有電機，所述濺射靶架旋轉軸6和軸瓦支架旋轉軸5各獨自連接一個電機，所述軸瓦支架旋轉軸5表面設有多個螺紋孔，所述掛柱9尾端設有與螺紋孔配合的牙，所述掛柱9中間半徑小于首段半徑，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸5由一個擋板10和擋板10兩側邊緣各垂直緊靠一個濺射靶支撐架3以及濺渡殼體1圍繞著，所述每兩個根軸瓦支架旋轉軸5轉向相反，所述濺射靶架旋轉軸6轉向為順時針，所述濺渡殼體1頂部設置有液壓裝置11，所述液壓裝置11通過圓桿貫穿濺渡殼體1頂面連接一個設置在濺渡殼體1內部的圓形密封蓋12。