[發明專利]一種高真空磁控軸瓦濺鍍機有效
| 申請號: | 201410107256.2 | 申請日: | 2014-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN104928634B | 公開(公告)日: | 2017-08-15 |
| 發明(設計)人: | 木儉樸 | 申請(專利權)人: | 煙臺大豐軸瓦有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 煙臺上禾知識產權代理事務所(普通合伙)37234 | 代理人: | 劉志毅 |
| 地址: | 261400 山東省煙*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空 軸瓦 濺鍍機 | ||
1.一種高真空磁控軸瓦濺鍍機,包括濺鍍殼體(1),濺鍍殼體(1)內設有濺鍍腔(8),所述濺鍍腔(8)設有濺射靶(2)和軸瓦支撐架(4),所述濺鍍殼體(1)底部設有底座(7),其特征在于:在所述底座(7)上設有濺射靶架旋轉軸(6),所述濺射靶架旋轉軸(6)固定設有用來活動放置濺射靶(2)的濺射靶支撐架(3),所述所述濺射靶(2)為雙面靶,正面為鎳靶、背面為合金靶,所述濺射靶支撐架(3)中間固定連接有濺射靶架旋轉軸(6),兩側邊緣為凹凸鋸齒狀,在所述底座7上還設有擋板(10),所述擋板(10)邊緣設有與濺射靶支撐架(3)兩側邊緣為凹凸鋸齒狀配合的凹凸鋸齒狀,所述軸瓦支撐架(4)包括軸瓦支架旋轉軸(5)和活動裝設在軸瓦支架旋轉軸(5)上用來懸掛軸瓦的掛柱(9),在所述底座(7)下方設有電機,所述濺射靶架旋轉軸(6)和軸瓦支架旋轉軸(5)各獨自連接一個電機,所述每兩根軸瓦支架旋轉軸(5)由一個擋板(10)和擋板(10)兩側邊緣各垂直緊靠一個濺射靶支撐架(3)以及濺鍍殼體(1)圍繞著,所述每兩根軸瓦支架旋轉軸(5)轉向相反,所述濺射靶架旋轉軸(6)轉向為順時針,所述濺鍍殼體(1)頂部設置有液壓裝置(11),所述液壓裝置(11)通過圓桿貫穿濺鍍殼體(1)頂面連接一個設置在濺鍍殼體(1)內部的圓形密封蓋(12)。
2.根據權利要求1所述一種高真空磁控軸瓦濺鍍機,其特征在于:所述軸瓦支架旋轉軸(5)表面設有多個螺紋孔,所述掛柱(9)尾端設有與螺紋孔配合的牙,所述掛柱(9)中間半徑小于首段半徑。
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