[發(fā)明專利]噴灑頭裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410104272.6 | 申請日: | 2014-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN104775105A | 公開(公告)日: | 2015-07-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蔡陳德;簡榮禎;黃智勇;陳冠州;王慶鈞;林義鈞 | 申請(專利權(quán))人: | 財團法人工業(yè)技術(shù)研究院 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴灑 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)于一種噴灑設(shè)備,且特別是有關(guān)于一種噴灑頭裝置。
背景技術(shù)
隨著鍍膜制作工藝的發(fā)展,如何將氣體均勻地噴灑到鍍膜腔室中為一項重要的技術(shù)。對此,氣體分布模塊(gas?distribution?module),特別是氣體噴灑頭(gas?showerhead)扮演了重要的角色。不過,鍍膜腔室的高溫可能導(dǎo)致氣體噴灑頭的變形。舉例而言,在進行化學(xué)氣象沉積的鍍膜制作工藝時,鍍膜腔室的溫度可能高達(dá)1050℃,這樣的溫度很容易讓金屬或是合金材質(zhì)的氣體噴灑頭發(fā)生變形。在長時間使用過后,氣體噴灑頭可能發(fā)生氣孔漏水或是氣體噴灑不均勻的情形。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種噴灑頭裝置,其具有良好的散熱性質(zhì)而有助于提升使用壽命。
為達(dá)上述目的,本發(fā)明的噴灑頭裝置包括一多孔板體,其具有一第一流道以及多個第二流道。第一流道沿著多孔板體蜿蜒分布以供一第一流體流通。第二流道分別貫穿多孔板體并且交錯于第一流道中以供一第二流體流通,其中第一流道與第二流道互不連通,且第一流體接觸各第二流道的側(cè)壁。
基于上述,本發(fā)明實施例的噴灑頭裝置將第二流道交錯于第一流道使得第一流道中的第一流體接觸第二流道的側(cè)壁。同時,本發(fā)明實施例的噴灑頭裝置不使第一流體與第二流體彼此連通。如此一來,第一流體的流動可以有效冷卻第二流道的側(cè)壁以降低溫度對噴灑頭裝置的不良影響,例如熱變形。在部分實施例中,噴灑頭裝置中定義出第一流道與第二流道的多孔板體可以為一體成形的裝置,而有助于避免因為構(gòu)件連接處的連接不良導(dǎo)致第一流道與第二流道之間的連通。
為讓本發(fā)明的上述特征能更明顯易懂,下文特舉實施例,并配合所附圖式作詳細(xì)說明如下。
附圖說明
圖1為本發(fā)明一實施例的噴灑頭裝置的示意圖。
圖2A為圖1的噴灑頭裝置中多孔板體100的示意圖。
圖2B為圖2A的多孔板體經(jīng)橫剖后的一部份的示意圖。
圖3為圖2A與圖2B的多孔板體的第一種實施方式的剖面示意圖,其中圖3表示的剖面對應(yīng)圖2A的剖線A-A。
圖4為圖2A與圖2B的多孔板體的第二種實施方式的剖面示意圖,其中圖4表示的剖面對應(yīng)圖2A的剖線A-A。
圖5為圖2A與圖2B的多孔板體的第三種實施方式的示意圖,其中圖5表示出多孔板體的局部部分的拆解圖。
圖6為圖2A與圖2B的多孔板體的第四種實施方式的示意圖,其中圖6表示出多孔板體的拆解圖。
圖7A為本發(fā)明另一實施例的多孔板體的示意圖。
圖7B為圖7A的多孔板體的拆解圖。
圖8A為本發(fā)明又一實施例的多孔板體的示意圖。
圖8B為圖8A的多孔板體的拆解圖。
圖9為本發(fā)明一實施例的板體裝置中設(shè)置有內(nèi)管件的示意圖。
符號說明
10:噴灑頭裝置
12:上蓋
12A:流體源連接件
14:固定框
16:內(nèi)管件
100、200、300:多孔板體
102:第一流道
104:第二流道
104A:入口端
104B:出口端
106、206、306:開口
108:第三流道
110、410:第一板面部
112:貫孔
120:環(huán)形壁
130、530、630:隔片結(jié)構(gòu)
140:管狀凸起
150、350:第二面板部
152:貫孔
202A、202B、302A~302D:分段
240:管件
420:柵狀結(jié)構(gòu)
532:第一隔片結(jié)構(gòu)
534:第二隔片結(jié)構(gòu)
A-A:剖線
A1、A2:封閉區(qū)域
D1、D2:距離
L:排列方向
P1~P7:流路
S1:第一側(cè)
S2:第二側(cè)
W:寬度
X、Y:節(jié)距
Θ:角度
具體實施方式
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





