[發明專利]一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜及其制備方法

無效

• 申請號: 201410102390.3
• 申請日: 2014-03-19
• 公開（公告）號: CN103911067A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 金國華;朱霆;許修安
• 申請（專利權）人: 蘇州襲麟光電科技產業有限公司
• 主分類號: C09D175/14
• 分類號: C09D175/14;C09D7/12
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

技術領域

本發明屬于保護膜技術領域，具體涉及一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜及其制備方法。

背景技術

所謂的“彩虹紋現象”是因為基材在進行硬化處理的時候需要過一次高溫，而在高溫處理中，基材表面分子結構不均勻產生散射情況。越高強度的硬化處理，彩虹紋越難控制。彩虹紋的存在會影響透光度以及視覺效果。彩虹紋多出現在手機保護膜上，例如是高透、高清的手機保護膜，彩虹紋造成屏幕不美觀，而且會影響人地視力。優質的保護膜材料在貼膜以后很難用肉眼看出彩虹紋。

所以彩虹紋其實是硬化處理的產物，越高強度的硬化處理，就意味著保護膜材料的彩虹紋越厲害，也就是說彩虹紋與硬化處理成正比的。在不影響視覺效果的前提下，達到最佳的硬化處理效果一般只會到3.5H至3.8H之間。超過這個值的，要么是虛報耐磨度、硬度、要么就是彩虹紋突出。

發明內容

發明目的：針對現有技術的不足，本發明的第一個目的是提供一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。本發明的第二個目的是提供上述保護膜的制備方法。

技術方案：為實現上述目的，本發明通過下述技術方案實現：一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜，按重量份數，包括以下原料制成：聚氨酯丙烯酸酯10～60份、UV稀釋單體1～50份、光引發劑0.4～40份、有機硅流平劑0.01～15份、有機硅耐磨劑0.03～15份、底材附著力促進劑0.02～6份、溶劑0～90份。

其中，上述保護膜還包括納米氧化鋯、納米氧化鋅、納米氧化鈦或納米氧化硅中的一種或幾種。

其中，上述納米氧化鋯為0.1～3.5份、納米氧化鋅為0.1～1.5份、納米氧化鈦0.01～2份、納米氧化硅0.1～3.5份。

其中，上述納米氧化硅粒徑在30～200納米之間。

其中，上述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。

其中，上述UV稀釋單體為ACMO、TMPTA、TPGDA或HDDA中的一種。

其中，上述光引發劑為光引發劑184、光引發劑1173、光引發劑TPO、光引發劑907中的一種或幾種。

其中，上述有機硅流平劑為Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378或BZ-624中的一種或幾種。

其中，上述有機硅耐磨劑包括：中的一種或幾種。

本發明的底材附著力促進劑為3M出品的非離子含氟表面活性劑FC-430；硅烷偶聯劑VAS(乙烯基三乙酰氧基硅烷)；Degussa出品的LTH樹脂；Bayer出品的含有異氰酸酯基團（NCO）的聚氨酯丙烯酸酯低聚物與含羥基的聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、PP-603等。

一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜的制備方法，包括以下步驟：

1）按照上述質量份數，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1500～2000轉/min，溫度控制在45～65℃之間；攪拌12～72小時，使膠液的分散粒徑在1um以下，膠液粘度控制在1～50mpa.s之間；

2）在PET薄膜表面預先涂布一層0.1～5μm的膠液得到微結構樹脂涂層，再次在微結構樹脂涂層表面涂布一層0.1～5μm的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護膜。

有益效果：與現有技術相比，本發明的優點如下：本發明不但可以消除硬化薄膜表面的彩虹紋現象，而且可以使薄膜表面的硬化層達到3～9H,耐磨可以經受0000#鋼絲棉，采用2kg的壓力，來回摩擦50次以上，在抗刮層表面沒有劃痕。因此該無彩虹紋保護膜的防刮耐磨效果極為優異。

具體實施方式

下述非限制性實施例可以使本領域的普通技術人員更全面地理解本發明，但不以任何方式限制本發明。

本發明所采用的在PET薄膜等材料都是市面上購買。

實施例1

聚氨酯丙烯酸酯10份、UV稀釋單體TMPTA1份、納米氧化鋯（折射率2.4）0.1份、納米氧化鋅（折射率2.0）0.1份、納米氧化鈦（折射率2.7）0.01份、光引發劑1840.1份、光引發劑11730.1份、光引發劑TPO0.1份、光引發劑9070.1份、0.01份、0.03份、FC-4300.02份、溶劑40份。