[發(fā)明專利]一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410102390.3
• 申請日: 2014-03-19
• 公開（公告）號: CN103911067A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金國華;朱霆;許修安
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州襲麟光電科技產(chǎn)業(yè)有限公司
• 主分類號: C09D175/14
• 分類號: C09D175/14;C09D7/12
• 代理公司: 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，按重量份數(shù)，包括以下原料制成：聚氨酯丙烯酸酯10～60份、UV稀釋單體1～50份、光引發(fā)劑0.4～40份、有機硅流平劑0.01～15份、有機硅耐磨劑0.03～15份、底材附著力促進(jìn)劑0.02～6份、溶劑0～90份。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述保護(hù)膜還包括納米氧化鋯、納米氧化鋅、納米氧化鈦或納米氧化硅中的一種或幾種。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述納米氧化鋯為0.1～3.5份、納米氧化鋅為0.1～1.5份、納米氧化鈦0.01～2份、納米氧化硅0.1～3.5份。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述納米氧化硅粒徑在30～200納米之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述聚氨酯丙烯酸酯的折射率大于1.6。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述UV稀釋單體為ACMO、TMPTA、TPGDA或HDDA中的一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述光引發(fā)劑為光引發(fā)劑184、光引發(fā)劑1173、光引發(fā)劑TPO、光引發(fā)劑907中的一種或幾種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述有機硅流平劑為Glide410、BYK-306、BYK-332、BYK-333、BYK-378或BZ-624中的一種或幾種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜，其特征在于，所述有機硅耐磨劑包括：中的一種或幾種。

10.權(quán)利要求1-9任一項所述的高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1）按照上述質(zhì)量份數(shù)，將原料先后加入恒溫密封高速攪拌缸中攪拌得到膠液，分散速度1500～2000轉(zhuǎn)/min，溫度控制在45～65℃之間；攪拌12～72小時，使膠液的分散粒徑在1um以下，膠液粘度控制在1～50mpa.s之間；

2）在PET薄膜表面預(yù)先涂布一層0.1～5μm的膠液得到微結(jié)構(gòu)樹脂涂層，再次在微結(jié)構(gòu)樹脂涂層表面涂布一層0.1～5μm的膠液即可得到高硬度、超耐磨無彩虹紋的保護(hù)膜。