[發明專利]參數監測方法在審
| 申請號: | 201410097489.9 | 申請日: | 2014-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN103871933A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 曾軍;高峰 | 申請(專利權)人: | 上海華虹宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 參數 監測 方法 | ||
技術領域
本發明涉及半導體制造領域,尤其涉及一種參數監測。
背景技術
半導體行業很多參數(Parameter)都需要進行嚴格監控,若參數出現變動,超出工藝能接受的范圍(SPEC),會發出相應的報警,此時則應停止生產,對工藝或設備等進行相應的調整或者優化,使其恢復到工藝能接受的范圍,這樣才能保證生產出的產品具有較高的合格率(Yield)。
現有技術中,通常采用故障偵測分類法(Fault?Detective?Classification,FDC)收集不同的參數,并將參數值記錄在不同的圖表(Chart)中,通過觀測Chart中的參數值大小實現監控生產中參數的實時變化情況,從而可以監測生產工藝等是否符合要求。
通常情況下,由于不同參數的數值大小不同,其SPEC也不同,因此一張Chart中只收集記錄同一個參數,并且只能相應設定不變的SPEC。然而,設備機臺的參數或者某些工藝的參數會發生一系列的變化,例如靶電壓(Target?voltage)會隨著靶材壽命(Target?life)的增加而降低。這些變化通常是正常的變化,不會影響產品的合格率。由于設定的SPEC是固定不會改變的,當設備機臺的參數或者某些工藝的參數發生上述變化時,往往會超出SPEC,造成不必要的錯誤報警,增加工作負荷。
同時,由于半導體行業參數數量極多,需要大量的Chart來記錄不同的參數,增加了技術人員對Chart監測的負荷,十分浪費時間。
發明內容
本發明的目的在于提供一種參數監測方法,能夠解決不同參數正常變化造成的錯誤報警,同時減少Chart的數量。
為了實現上述目的,本發明提出了一種參數監測方法,所述方法包括步驟:
篩選出多個參數中具有相關性的參數;
由所述具有相關性的參數獲取一常數;
使用圖表收集和記錄所述常數;
根據所述常數監測所述具有相關性的參數。
進一步的,所述具有相關性的參數通過一公式計算得出所述常數。
進一步的,所述公式具有多個系數。
進一步的,所述系數與所述具有相關性的參數個數相同。
進一步的,所述系數通過曲線擬合法得出。
進一步的,所述圖表設有一范圍。
進一步的,所述常數超出所述范圍時,則引發出報警。
進一步的,所述具有相關性的參數是靶電壓和靶材壽命。
與現有技術相比,本發明的有益效果主要體現在:通過篩選出具有相關性的多個參數,由多個具有相關性的參數得出一固定的常數,再由圖表收集常數的數值,若具有相關性的參數發生了異常變化,會導致常數發生異常變化,從而即可通過常數的數值來監測多個具有相關性的參數是否處于正常范圍以內,解決了不同的具有相關性的參數正常變化造成的錯誤報警,同時減少圖表的數量,優化了參數監測方法,使其易于管理。
附圖說明
圖1為本發明一實施例中參數監測方法的流程圖。
具體實施方式
下面將結合示意圖對本發明的參數監測方法進行更詳細的描述,其中表示了本發明的優選實施例,應該理解本領域技術人員可以修改在此描述的本發明,而仍然實現本發明的有利效果。因此,下列描述應當被理解為對于本領域技術人員的廣泛知道,而并不作為對本發明的限制。
為了清楚,不描述實際實施例的全部特征。在下列描述中,不詳細描述公知的功能和結構,因為它們會使本發明由于不必要的細節而混亂。應當認為在任何實際實施例的開發中,必須做出大量實施細節以實現開發者的特定目標,例如按照有關系統或有關商業的限制,由一個實施例改變為另一個實施例。另外,應當認為這種開發工作可能是復雜和耗費時間的,但是對于本領域技術人員來說僅僅是常規工作。
在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發明。根據下面說明和權利要求書,本發明的優點和特征將更清楚。需說明的是,附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例,僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
請參考圖1,在本實施例中,提出了一種參數監測方法,包括步驟:
S100:篩選出多個參數中具有相關性的參數;
由于半導體行業的很多參數均具有一定的相關性,即一個參數的變化會引起另一個參數的相應變化,例如背景技術中提及的Target?voltage會隨著Target?life的增加而降低,兩者存在一定的線性相關性。需要指出的是,可以篩選出多個具有相關性的參數,不僅僅限于2個。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





