[發明專利]清潔電子元件的清潔設備及工藝

在審

• 申請號: 201410095479.1
• 申請日: 2014-03-13
• 公開（公告）號: CN104907289A
• 公開（公告）日: 2015-09-16
• 發明（設計）人: 樸健禹
• 申請（專利權）人: 東莞高偉光學電子有限公司
• 主分類號: B08B7/04
• 分類號: B08B7/04;B08B7/00;B08B5/02
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 仉玉新

1.一種用于清潔電子元件的清潔設備，所述清潔設備包括：

多個處理區；和

一個或多個傳送裝置，所述傳送裝置用于將電子元件相繼的傳送到每一個處理區，使得所述電子元件順序通過串連的處理區進行處理；

其中，在一個處理區中，在大氣壓力下，施加等離子到電子元件上。

2.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，在一個處理區中，將氣體吹到電子元件上以去除電子元件上的污染物。

3.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，在一個處理區中，對電子元件進行真空處理以去除電子元件上的污染物。

4.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，另一個處理區是吹風區，在所述送風區，向電子元件吹送氣體，且另一個處理區是真空區，在所述真空區，對電子元件進行真空處理，在真空區之前，是在大氣壓力對電子元件施加等離子的處理區，而吹風區則在真空區之前。

5.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，在于大氣壓力下對電子元件施加等離子的處理區，也對所述電子元件應用去離子水。

6.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述處理區被整合為一個單一機器。

7.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述處理區和一個或多個傳送裝置被整合成作為一個單一機器。

8.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述處理區和一個或多個傳送裝置被封閉在一個受控的清潔環境中。

9.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，包括多個傳送裝置，其中每一個傳送裝置都被是單獨操控的。

10.一種用于清潔電子元件的清潔工藝，所述清潔工藝包括：

將電子元件相繼的傳送到多個處理區，以使所述電子元件順序通過串連的處理區進行處理；

在每個處理區依次處理電子元件；和

在一個處理區中，在大氣壓力下對電子元件施加等離子。