[發(fā)明專利]一種氮化鎵基發(fā)光二極管及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410093932.5 | 申請日: | 2014-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN103824915A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閆發(fā)旺;白俊春;汪英杰 | 申請(專利權(quán))人: | 華延芯光(北京)科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/22;H01L33/24 |
| 代理公司: | 北京權(quán)泰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11460 | 代理人: | 任永利 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氮化 發(fā)光二極管 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
氮化鎵(GaN)是第三代直接能隙寬禁帶半導(dǎo)體,其禁帶寬℃為3.39eV。GaN基紫外、綠光或藍(lán)光發(fā)光二極管(LED)器件具有高亮度、低能耗、長壽命、響應(yīng)速℃快等優(yōu)點(diǎn),在全色顯示、信號指示、景觀照明等領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。特別是以GaN基藍(lán)光LED混合熒光粉后制作的白光LED研發(fā)進(jìn)展迅速,白光LED的發(fā)光波長只在可見光區(qū),避免了白熾燈強(qiáng)烈的紅外輻射,可以大量節(jié)約能源。同時白光LED體積小、壽命長、安全、高效、不存在汞等有害物質(zhì),被稱為新一代綠色環(huán)保型照明光源,使其有望取代傳統(tǒng)的白熾燈和熒光燈,帶來人類照明光源的革命。
目前GaN基紫外、綠光或藍(lán)光發(fā)光二極管材料通常異質(zhì)外延生長在藍(lán)寶石襯底上。因?yàn)榈锖退{(lán)寶石襯底之間通常存在很大的晶格常數(shù)失配和熱膨脹系數(shù)差異,所以利用金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積(MOCVD)外延技術(shù)生長的氮化物外延層中存在很多晶體缺陷如位錯等,材料的晶體質(zhì)量因此受到很大影響。特別的由于晶格不匹配導(dǎo)致應(yīng)力引起的極化效應(yīng)使得量子阱內(nèi)存在很大的電場,導(dǎo)致電子和空穴波函數(shù)空間上的分離,使輻射復(fù)合效率下降,發(fā)光效率和亮度低下。
為了提高發(fā)光二極管的亮度和發(fā)光效率,高反光層的生長插入層和高量子發(fā)光效率的發(fā)光區(qū)的生長設(shè)計(jì)是很重要的。內(nèi)建電場的減弱,量子限制作用的增強(qiáng)將使輻射復(fù)合幾率增加,發(fā)光效率大大提高。
因此,為了提高GaN基紫外、藍(lán)光或綠光二極管的亮度,提高發(fā)光效率,發(fā)展新的外延生長技術(shù)是十分必要的。
發(fā)明概述
本發(fā)明的目的是在于提供一種提高氮化鎵基發(fā)光二極管發(fā)光效率的外延生長方法。該方法通過在生長氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱發(fā)光層前插入生長一層粗化不平的氮化鋁硅層來實(shí)現(xiàn)。該外延生長方法適用于高亮度、高發(fā)光效率的氮化基紫外或藍(lán)光或綠光發(fā)光二極管外延材料的金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)外延生長。
本發(fā)明的第一方面提供了一種氮化鎵基發(fā)光二極管,其從下到上依次包括以下各層:
藍(lán)寶石襯底1;
氮化鎵層2,其作為緩沖層;
非摻雜氮化鎵層3;
n型導(dǎo)電氮化鎵層4;
表面粗化不平的氮化鋁硅層5;
氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層6;和
p型氮化鎵層7。
本發(fā)明的第二方面提供了一種氮化鎵基發(fā)光二極管的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
步驟1:利用金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備,在藍(lán)寶石襯底1上依次外延生長氮化鎵層2、非摻雜氮化鎵層3和n型導(dǎo)電氮化鎵層4后,調(diào)整所述金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備到作為發(fā)光層的氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層的生長溫度;
步驟2:在生長氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層之前,將氨氣、三甲基鋁和硅烷持續(xù)通入所述金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備,以在所述n型導(dǎo)電氮化鎵層4上面自然生成表面粗化不平的氮化鋁硅層5;
步驟3:在該表面粗化不平的氮化鋁硅層5上再依次生長所述氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層6和p型氮化鎵層7,即成為所述氮化鎵基發(fā)光二極管。
附圖簡述
圖1是本發(fā)明的氮化鎵基發(fā)光二極管的結(jié)構(gòu)示意圖。
發(fā)明詳述
為了進(jìn)一步說明本發(fā)明的內(nèi)容,以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作詳細(xì)的描述。
本發(fā)明的第一方面中的氮化鎵基發(fā)光二極管,其從下到上依次包括以下各層:藍(lán)寶石襯底1;氮化鎵層,其作為緩沖層2;非摻雜氮化鎵層(3);n型導(dǎo)電氮化鎵層4;表面粗化不平的氮化鋁硅層5;氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層6;和p型氮化鎵層7。
其中各層的名字是半導(dǎo)體領(lǐng)域中常用的技術(shù)術(shù)語,為技術(shù)人員所熟知。例如:所述n型導(dǎo)電氮化鎵層是指摻雜硅的氮化鎵層。所述氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層是指多個氮化銦鎵/氮化鎵單量子層的疊置,其中每一個氮化銦鎵/氮化鎵單量子層由兩層氮化鎵層夾著一層氮化銦鎵層組成,類似于三明治結(jié)構(gòu),其中氮化銦鎵層作為量子阱層,氮化鎵層作為量子壘限制層。換句話說,一個氮化銦鎵/氮化鎵單量子層由氮化鎵層-氮化銦鎵層-氮化鎵層組成,而氮化銦鎵/氮化鎵多量子阱層是指氮化鎵層-氮化銦鎵層-氮化鎵層-氮化銦鎵層-氮化鎵層-……這樣的結(jié)構(gòu)。p型氮化鎵層是指摻雜鎂的氮化鎵層。
氮化鋁硅是同時將氨氣、三甲基鋁和硅烷同時通入反應(yīng)室得到的一種二元復(fù)合氮化物,是氮化硅和氮化鋁的多晶態(tài)復(fù)合物質(zhì),在成分上可以看作是摻雜了硅的氮化鋁,或者摻雜了鋁的氮化硅,其具體成分組成可通過X射線光電子能譜分析或X射線能量色散譜分析方法測試得到。
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