[發(fā)明專利]形成用于圖案化底層結(jié)構(gòu)的掩膜層的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410092896.0
• 申請(qǐng)日: 2014-03-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104051235B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: G·M·施密德;J·A·瓦爾;R·A·法雷爾;C·帕克
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 格羅方德半導(dǎo)體公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;H01L21/768;H01L21/027
• 代理公司: 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11314
• 代理人: 程偉,王錦陽(yáng)

1.一種方法，包括：

在結(jié)構(gòu)上方形成包含多個(gè)分離的開(kāi)口的圖案化硬掩膜層，其中，該圖案化硬掩膜層包含多個(gè)交叉線狀特征；

在該圖案化硬掩膜層上方形成圖案化蝕刻掩膜，其曝露出至少一個(gè)，但非全部的該多個(gè)分離的開(kāi)口；以及

透過(guò)該圖案化蝕刻掩膜和在該圖案化硬掩膜層中的該至少一個(gè)曝露出來(lái)的開(kāi)口實(shí)行至少一個(gè)蝕刻制程以在該結(jié)構(gòu)中定義開(kāi)口。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該結(jié)構(gòu)是絕緣材料層。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該交叉線狀特征是借由實(shí)行多個(gè)定向自組裝制程操作所形成。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，至少部分的該交叉線狀特征是借由實(shí)行定向自組裝制程操作所形成。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該交叉線狀特征以大約90度角彼此交叉。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該交叉線狀特征以非正交的角度彼此交叉。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該分離的開(kāi)口具有實(shí)質(zhì)上矩形的結(jié)構(gòu)。

8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，該圖案化硬掩膜層包含第一多個(gè)線狀特征，其與第二多個(gè)線狀特征交叉，其中，該第一多個(gè)線狀特征和該第二多個(gè)線狀特征是以不同的材料制成。

9.一種方法，包括：

在結(jié)構(gòu)上方形成圖案化硬掩膜層，其中，該圖案化硬掩膜層包含第一多個(gè)線狀特征，其與第二多個(gè)線狀特征交叉，從而定義多個(gè)分離的開(kāi)口，且其中，該第一多個(gè)線狀特征和該第二多個(gè)線狀特征是以不同的材料制成；

在該圖案化硬掩膜層上方形成圖案化蝕刻掩膜，其曝露出至少一個(gè)，但非全部的該多個(gè)分離的開(kāi)口；以及

透過(guò)該圖案化蝕刻掩膜和在該圖案化硬掩膜層中的該至少一個(gè)曝露出來(lái)的開(kāi)口實(shí)行至少一個(gè)蝕刻制程以在該結(jié)構(gòu)中定義開(kāi)口。

10.如權(quán)利要求9所述的電路組件，其特征在于，該交叉的線狀特征以大約90度角彼此交叉。

11.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，該交叉的線狀特征以非正交的角度彼此交叉。

12.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，該分離的開(kāi)口具有實(shí)質(zhì)上矩形的結(jié)構(gòu)。

13.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，該交叉的線狀特征是借由實(shí)行多個(gè)定向自組裝制程操作所形成。

14.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，至少部分的該交叉的線狀特征是借由實(shí)行定向自組裝制程操作所形成。

15.一種方法，包括：

在結(jié)構(gòu)上方形成圖案化硬掩膜層，該圖案化硬掩膜層包括多個(gè)交叉線狀特征，其定義具有實(shí)質(zhì)上矩形的結(jié)構(gòu)的多個(gè)分離的開(kāi)口；

在該圖案化硬掩膜層上方形成圖案化蝕刻掩膜，其曝露出至少一個(gè)，但非全部的該多個(gè)分離的開(kāi)口；以及

透過(guò)該圖案化蝕刻掩膜和在該圖案化硬掩膜層中的該至少一個(gè)曝露出來(lái)的開(kāi)口實(shí)行至少一個(gè)蝕刻制程以在該結(jié)構(gòu)中定義開(kāi)口。

16.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，該交叉線狀特征以大約90度角彼此交叉。

17.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，該交叉線狀特征包含第一多個(gè)線狀特征，其與第二多個(gè)線狀特征交叉，其中，該第一多個(gè)線狀特征和該第二多個(gè)線狀特征是以不同的材料制成。

18.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，該交叉線狀特征是借由實(shí)行多個(gè)定向自組裝制程操作所形成。

19.如權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，至少部分的該交叉線狀特征是借由實(shí)行定向自組裝制程操作所形成。