[發(fā)明專利]網(wǎng)板曝光機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410088620.5
• 申請(qǐng)日: 2014-03-12
• 公開（公告）號(hào): CN104914676B
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 詹文清;羅志雄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 旺昌機(jī)械工業(yè)（昆山）有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所31219
• 代理人: 余明偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及網(wǎng)板制造領(lǐng)域，特別是涉及一種可改善網(wǎng)板曝光質(zhì)量的網(wǎng)板曝光機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著電路板微型化以及功能強(qiáng)化的發(fā)展下，對(duì)于線路板的圖形導(dǎo)線的寬度及其線距的要求亦越來越高，而于電路板的整體制造過程中，電路板的曝光程序又是其中至關(guān)重要的一個(gè)步驟。

然而，于現(xiàn)有生產(chǎn)工業(yè)中，PCB板經(jīng)常由于曝光度掌握不夠精準(zhǔn)，而導(dǎo)致PCB板的導(dǎo)電性及美觀性受到影響，故如何克服上述缺陷，即為本發(fā)明待解決的技術(shù)課題。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述先前技術(shù)之種種問題，本發(fā)明之目的在于提供一種網(wǎng)板曝光機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)，可全程監(jiān)控網(wǎng)板曝光機(jī)的曝光裝置的工作狀態(tài)，以輕易篩選出曝光不良品并分析產(chǎn)生曝光不良之原因。

本發(fā)明之另一目的在于提供一種網(wǎng)板曝光機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)，可控制所述曝光裝置自動(dòng)調(diào)整工作狀態(tài)，以確保產(chǎn)品之曝光質(zhì)量，并延長(zhǎng)機(jī)臺(tái)零部件之工作壽命。

為達(dá)到上述目的以及其他目的，本發(fā)明提供一種網(wǎng)板曝光機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)，應(yīng)用于具有曝光裝置的網(wǎng)板曝光機(jī)，用于監(jiān)控所述網(wǎng)板曝光機(jī)的曝光裝置的工作狀態(tài)，所述系統(tǒng)包括：曝光監(jiān)控模塊，具有：曝光參數(shù)設(shè)定單元，用于提供設(shè)定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對(duì)應(yīng)的異常處理操作流程；曝光偵測(cè)器，設(shè)于所述網(wǎng)板曝光機(jī)的曝光裝置中，且所述曝光裝置還具有光學(xué)元件，所述曝光偵測(cè)器用于持續(xù)地偵測(cè)所述光學(xué)元件的即時(shí)光功率（mW），并輸出所偵測(cè)的即時(shí)光功率（mW）值；曝光分析單元，用于收集所述曝光偵測(cè)器所輸出的所述光學(xué)元件的即時(shí)光功率（mW）值，并于分析所述輸出的即時(shí)光功率（mW）值與所述曝光參數(shù)設(shè)定單元所設(shè)定的曝光參數(shù)值不吻合時(shí)，輸出異常信號(hào)；以及異常處理模塊，于接收到所述曝光分析單元所輸出的異常信號(hào)時(shí)，依據(jù)所述設(shè)定的異常處理操作流程執(zhí)行相應(yīng)的操作。

較佳地，藉由所述曝光參數(shù)設(shè)定單元所設(shè)定的異常處理操作流程至少包括：輸出警報(bào)信號(hào)、調(diào)整所述光學(xué)元件的工作狀態(tài)以及令所述網(wǎng)板曝光機(jī)停止操作的所組群組之其中一者。

較佳地，所述系統(tǒng)還包括：記錄模塊，記錄所述網(wǎng)板曝光機(jī)對(duì)網(wǎng)板進(jìn)行曝光的曝光處理信息，且其還于所述曝光分析單元輸出異常信號(hào)時(shí)，記錄所述輸出的異常信號(hào)所對(duì)應(yīng)的曝光 作業(yè)數(shù)據(jù)。其中，所述曝光作業(yè)數(shù)據(jù)包括：輸出所述異常信號(hào)的時(shí)間及在輸出所述異常信號(hào)時(shí)間下的光學(xué)元件的光功率（mW）值所組群組之其中一者。

較佳地，所述系統(tǒng)中的曝光參數(shù)設(shè)定單元還提供客制化標(biāo)準(zhǔn)作業(yè)程序(SOP)測(cè)光功能的設(shè)定，用以供用戶設(shè)定其所欲輸入的光能量值(mJ)，以在曝光作業(yè)時(shí)，所述曝光分析單元依據(jù)用戶所設(shè)定的光能量值，以線性處理方式來控制累積光能量。此外，所述曝光參數(shù)設(shè)定單元還提供二次曝光的功能設(shè)定，且所述光學(xué)元件的光路徑中設(shè)有一可動(dòng)式濾片，所述曝光分析單元依據(jù)曝光參數(shù)設(shè)定單元所設(shè)定的二次曝光的功能，于曝光作業(yè)中，使光學(xué)元件提供預(yù)定波長(zhǎng)，待一預(yù)定時(shí)間后，控制所述濾片的移動(dòng)來調(diào)整所述光學(xué)元件所提供的所述預(yù)定波長(zhǎng)，而達(dá)到以單一波長(zhǎng)進(jìn)行多重波長(zhǎng)的曝光。

較佳地，所述系統(tǒng)還設(shè)有數(shù)據(jù)傳輸接口，藉由所述數(shù)據(jù)傳輸接口供用戶近端或遠(yuǎn)程設(shè)定所述曝光裝置的曝光參數(shù)值及其對(duì)應(yīng)的異常處理操作流程。

較佳地，所述網(wǎng)板曝光機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)還包括：真空監(jiān)控模塊，用于偵測(cè)所述曝光裝置的曝光室內(nèi)的真空壓力值，所述真空監(jiān)控模塊具有：真空參數(shù)設(shè)定單元，用于提供設(shè)定所述曝光室內(nèi)的真空參數(shù)值及其對(duì)應(yīng)的異常處理操作流程；壓力傳感器，用于感測(cè)所述曝光室內(nèi)的真空壓力，并輸出所感測(cè)的真空壓力值；以及真空分析單元，用于接收所述壓力傳感器所輸出的真空壓力值，并于分析所述輸出的真空壓力值與所述真空參數(shù)設(shè)定單元所設(shè)定的真空參數(shù)值不吻合時(shí)，輸出異常信號(hào)。較佳地，所述異常處理模塊還包括：于接收到所述真空分析單元所輸出的異常信號(hào)時(shí)，依據(jù)所述真空參數(shù)設(shè)定單元所設(shè)定的異常處理操作流程執(zhí)行相應(yīng)的操作。再者，所述異常處理模塊判定在一預(yù)定時(shí)間真空壓力無法到達(dá)所設(shè)定的真空參數(shù)值時(shí)，停止曝光作業(yè)及發(fā)出警報(bào)狀態(tài)消息。

較佳地，所述系統(tǒng)還包括：溫度監(jiān)控模塊，其具有：溫度參數(shù)設(shè)定單元，用于提供設(shè)定所述曝光裝置內(nèi)的光學(xué)元件的工作溫度參數(shù)值；散熱單元，設(shè)于所述曝光裝置上，用于調(diào)降所述光學(xué)元件的工作溫度；溫度傳感器，用于感測(cè)所述光學(xué)元件當(dāng)前的工作溫度，并輸出所感測(cè)到的工作溫度值；以及溫控單元，用于接收所述溫度傳感器所輸出的工作溫度值，并于分析所述輸出的工作溫度值高于所述溫度參數(shù)設(shè)定單元所設(shè)定的工作溫度參數(shù)值時(shí)，啟動(dòng)所述散熱單元對(duì)所述光學(xué)元件實(shí)施降溫操作。