[發明專利]網板曝光機監控系統

有效

• 申請號: 201410088620.5
• 申請日: 2014-03-12
• 公開（公告）號: CN104914676B
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 詹文清;羅志雄
• 申請（專利權）人: 旺昌機械工業（昆山）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海光華專利事務所31219
• 代理人: 余明偉

1.一種網板曝光機監控系統，應用于具有曝光裝置的網板曝光機，用于監控所述網板曝光機的曝光裝置的工作狀態，其特征在于，所述系統包括：

曝光監控模塊，具有：

曝光參數設定單元，用于提供設定所述曝光裝置的曝光參數值及其對應的異常處理操作流程；

曝光偵測器，設于所述網板曝光機的曝光裝置中，且所述曝光裝置還具有光學元件，所述曝光偵測器用于持續地偵測所述光學元件的即時光功率，并輸出所偵測的即時光功率值；及

曝光分析單元，用于收集所述曝光偵測器所輸出的所述光學元件的即時光功率值，并于分析所述輸出的即時光功率值與所述曝光參數設定單元所設定的曝光參數值不吻合時，輸出異常信號；

其中，所述曝光參數設定單元還提供二次曝光的功能設定，且所述光學元件的光路徑中設有一可動式濾片，所述曝光分析單元依據曝光參數設定單元所設定的二次曝光的功能，于曝光作業中，使光學元件提供預定波長，待一預定時間后，控制所述濾片的移動來調整所述光學元件所提供的所述預定波長，而達到以單一波長進行多重波長的曝光；以及

異常處理模塊，于接收到所述曝光分析單元所輸出的異常信號時，依據所述設定的異常處理操作流程執行相應的操作。

2.根據權利要求1所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，藉由所述曝光參數設定單元所設定的異常處理操作流程至少包括：輸出警報信號、調整所述光學元件的工作狀態以及令所述網板曝光機停止操作的所組群組之其中一者。

3.根據權利要求1所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，還包括：記錄模塊，用以記錄所述網板曝光機對網板進行曝光的曝光處理信息。

4.根據權利要求3所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，所述記錄模塊還于所述曝光分析單元輸出異常信號時，記錄所述輸出的異常信號所對應的曝光作業數據，所述曝光作業數據包括：輸出所述異常信號的時間及在輸出所述異常信號時間下的光學元件的光功率值所組群組之其中一者。

5.根據權利要求1所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，所述曝光參數設定單元還提供客制化標準作業程序測光功能的設定，用以供用戶設定其所欲輸入的光能量值，以在曝光作業時，所述曝光分析單元依據用戶所設定的光能量值，以線性處理方式來控制累積光能量。

6.根據權利要求1所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，其還設有數據傳輸接口，藉由所述數據傳輸接口供用戶近端或遠程設定所述曝光裝置的曝光參數值及其對應的異常處理操作流程。

7.根據權利要求1所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，所述光學元件的出光路徑上設置一凸透鏡，以使穿過的光線均勻發散。

8.根據權利要求1所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，還包括：真空監控模塊，所述真空監控模塊具有：

真空參數設定單元，用于提供設定所述曝光室內的真空參數值及其對應的異常處理操作流程；

壓力傳感器，用于感測所述曝光室內的真空壓力，并輸出所感測的真空壓力值；以及

真空分析單元，用于接收所述壓力傳感器所輸出的真空壓力值，并于分析所述輸出的真空壓力值與所述真空參數設定單元所設定的真空參數值不吻合時，輸出異常信號。

9.根據權利要求8所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，所述異常處理模塊還包括：于接收到所述真空分析單元所輸出的異常信號時，依據所述真空參數設定單元所設定的異常處理操作流程執行相應的操作。

10.根據權利要求9所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，所述壓力傳感器為多個，且分別設于所述網板曝光機的曝光室及真空源中，分別用以感測所述網板曝光機內的真空幫浦真空度、設于所述網板曝光機的曝光室中的網板、底片真空數值以及橡膠壓條氣密性以及設于網板曝光機內的抽真空組件的狀態。

11.根據權利要求8所述的網板曝光機監控系統，其特征在于，所述異常處理模塊判定在一預定時間真空壓力無法到達所設定的真空參數值時，停止曝光作業及發出警報狀態消息。