[發明專利]一種多功能層低輻射節能玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201410088350.8
• 申請日: 2014-03-12
• 公開（公告）號: CN103847170A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 劉戰合;周鈞;敖巍巍;韓匯如
• 申請（專利權）人: 江蘇匯景薄膜科技有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36
• 代理公司: 江蘇銀創律師事務所 32242
• 代理人: 王紀營

1.一種多功能層低輻射節能玻璃，其特征在于，包括玻璃基片、阻擋層、鈦功能層、銀鈦功能層、保護層，在玻璃基片上由內向外方向依次為阻擋層、鈦功能層、銀鈦功能層、保護層，阻擋層用于阻止玻璃基片中的鈉離子、鈣離子等進入功能層影響節能效果，保護層用于提高薄膜的耐腐蝕、耐磨機械性能，用于對整個膜系的保護。

2.根據權利要求1所述的一種多功能層低輻射節能玻璃，其特征在于，所述鈦功能層包括第一氧化鈦膜層（31）、第一金屬鈦膜層（32）、第二氧化鈦膜層（33），所述鈦功能層膜層順序由內向外方向依次為第一氧化鈦膜層（31）、第一金屬鈦膜層(32)、第二氧化鈦膜層（33），所述鈦功能層中第一氧化鈦膜層（31）的膜層厚度為20～35nm，第一金屬鈦膜層（32）的膜層厚度為6～15nm，第二氧化鈦膜層（33）的膜層厚度為20～35nm。

3.根據權利要求1所述的一種多功能層低輻射節能玻璃，其特征在于，所述銀鈦功能層包括金屬銀膜層（41）、第二金屬鈦膜層（42）、第三氧化鈦膜層（43）、氧化鋅膜層（44），所述銀鈦功能層膜層順序由內向外依次為金屬銀膜層（41）、第二金屬鈦膜層（42）、第三氧化鈦膜層（43）、氧化鋅膜層（44），所述銀鈦功能層中金屬銀膜層（41）的膜層厚度為8～12nm，第二金屬鈦膜層（42）的膜層厚度為5～15nm，第三氧化鈦膜層（43）的膜層厚度為20～35nm，氧化鋅膜層（44）的膜層厚度為20～40nm。

4.根據權利要求1所述的一種多功能層低輻射節能玻璃，其特征在于，所述阻擋層的材料為氧化硅或者氮化硅，所述阻擋層膜層厚度為20～35nm。

5.根據權利要求1所述的一種多功能層低輻射節能玻璃，其特征在于，所述保護層的材料為氧化硅或者氮化硅，所述保護層膜層厚度為25～45nm。

6.權利要求1所述的一種多功能層低輻射節能玻璃的制備方法，其特征在于，在溫度在16～26℃?、濕度50%以下、濺射氣壓維持在0.1Pa～0.5Pa范圍、潔凈度達到十萬量級的鍍膜環境下，利用磁控濺射設備，在玻璃基片上依次濺射形成阻擋層、鈦功能層、銀鈦功能層、保護層，其中阻擋層用于阻止玻璃基片中的鈉離子、鈣離子等進入功能層影響節能效果，所述阻擋層的材料為氧化硅或者氮化硅；保護層用于提高薄膜的耐腐蝕、耐磨機械性能，用于對整個膜系的保護，所述保護層的材料為氧化硅或者氮化硅。

7.根據權利要求6所述的一種多功能層低輻射節能玻璃制備方法，其特征在于，所述鈦功能層包括第一氧化鈦膜層（31）、第一金屬鈦膜層（32）、第二氧化鈦膜層（33），所述鈦功能層膜層濺射順序依次為第一氧化鈦膜層（31）、第一金屬鈦膜層(32)、第二氧化鈦膜層（33），所述鈦功能層中第一氧化鈦膜層（31）的膜層厚度為20～35nm，第一金屬鈦膜層（32）的膜層厚度為6～15nm，第二氧化鈦膜層（33）的膜層厚度為20～35nm。

8.根據權利要求6所述的一種多功能層低輻射節能玻璃制備方法，其特征在于，所述銀鈦功能層包括金屬銀膜層（41）、第二金屬鈦膜層（42）、第三氧化鈦膜層（43）、氧化鋅膜層（44），所述銀鈦功能層膜層濺射順序依次為金屬銀膜層（41）、第二金屬鈦膜層（42）、第三氧化鈦膜層（43）、氧化鋅膜層（44），所述銀鈦功能層中金屬銀膜層（41）的膜層厚度為8～12nm，第二金屬鈦膜層（42）的膜層厚度為5～15nm，第三氧化鈦膜層（43）的膜層厚度為20～35nm，氧化鋅膜層（44）的膜層厚度為20～40nm。

9.根據權利要求6所述的一種多功能層低輻射節能玻璃制備方法，其特征在于，所述阻擋層膜層厚度為20～35nm。

10.根據權利要求6所述的一種多功能層低輻射節能玻璃制備方法，其特征在于，所述保護層膜層厚度為25～45nm。