[發(fā)明專利]一種干燥區(qū)間排氣門的控制方法和裝置及干燥區(qū)間設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410081087.X | 申請日: | 2014-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN103887211A | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 寇克瑜;于凱;李偉;宋泳珍;白忠飛;王其輝;鄭云亮;董志學(xué);徐國軍;徐言龍 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 李迪 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 干燥 區(qū)間 氣門 控制 方法 裝置 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,尤其涉及一種干燥區(qū)間排氣門的控制方法和裝置及干燥區(qū)間設(shè)備。
背景技術(shù)
在薄膜場效應(yīng)晶體管(Thin?Film?Transistor,TFT)-液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display,LCD)制造業(yè)中,工藝腔(Process?Chamber)前的干燥區(qū)間被藥液蒸汽污染的問題一直困擾著濕法刻蝕和剝離設(shè)備。干燥區(qū)間排氣門的作用是為了保持區(qū)間內(nèi)的空氣干燥,但是,在圖1中的結(jié)構(gòu)中,當(dāng)干燥區(qū)間1和工藝腔2之間的閥門5開啟,藥液蒸汽經(jīng)實線箭頭所示路徑自干燥區(qū)間1進(jìn)入工藝腔2時,由于干燥區(qū)間排氣門3和工藝腔排氣門4均為開啟狀態(tài),一部分藥液蒸汽會反向經(jīng)開關(guān)閥門5被干燥區(qū)間排氣門3吸入干燥區(qū)間1中,如圖1虛線所示。此時,干燥區(qū)間1內(nèi)藥液蒸汽中的藥液會遇冷凝結(jié)在干燥區(qū)間1的滾筒和腔壁上,易形成結(jié)晶或污染物。例如,剝離液凝結(jié)會使得玻璃基板產(chǎn)生與滾筒寬度匹配的線狀Mura痕跡,并且不容易洗掉,宏觀觀測的污染物示意圖如圖2所示。
在現(xiàn)有技術(shù)中,一般采用如下兩種方法以盡量減少或避免污染物的出現(xiàn):一種方法是增大工藝腔排氣門的壓力,使其遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于干燥區(qū)間排氣門的壓力;另一種方法則是去除干燥區(qū)間的排氣門。但是,上述兩種方法均無法較好地達(dá)到目的:第一種方法雖然可以減少污染現(xiàn)象卻不可能完全避免,并且會給廢氣處理環(huán)節(jié)增加非常大的處理壓力和處理成本;而第二種方法會導(dǎo)致少量進(jìn)入干燥區(qū)間的污染性藥液蒸汽或水汽無法排出,長時間積累依然會使干燥區(qū)間慢慢被污染。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題
本發(fā)明提供干燥區(qū)間排氣門的控制方法和裝置及一種干燥區(qū)間設(shè)備,以解決現(xiàn)有技術(shù)中藥液蒸汽易污染干燥區(qū)間的技術(shù)問題。
(二)技術(shù)方案
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種干燥區(qū)間排氣門的控制方法,包括:
在干燥區(qū)間和工藝腔之間,設(shè)置開關(guān)閥門,在干燥區(qū)間排氣門處設(shè)置聯(lián)動閥門,根據(jù)所述開關(guān)閥門的狀態(tài)控制所述聯(lián)動閥門,使得所述開關(guān)閥門和所述聯(lián)動閥門滿足互鎖關(guān)系。
進(jìn)一步地,所述互鎖關(guān)系為:
當(dāng)所述開關(guān)閥門開啟時,控制所述聯(lián)動閥門關(guān)閉干燥區(qū)間排氣門;當(dāng)所述開關(guān)閥門關(guān)閉時,控制所述聯(lián)動閥門開啟干燥區(qū)間排氣門。
另一方面,本發(fā)明還提供一種干燥區(qū)間排氣門的控制裝置,包括:
開關(guān)閥門,位于干燥區(qū)間和工藝腔之間,用于控制氣流流向;
聯(lián)動閥門,設(shè)置于干燥區(qū)間排氣門處,用于控制干燥區(qū)間排氣門的開啟和關(guān)閉;
互鎖裝置,與所述開關(guān)閥門和所述聯(lián)動閥門相連,用于控制所述關(guān)閥門和所述聯(lián)動閥門滿足互鎖關(guān)系。
進(jìn)一步地,
所述聯(lián)動閥門位于干燥區(qū)間排氣門的干燥區(qū)間腔體內(nèi)側(cè)。
進(jìn)一步地,所述互鎖關(guān)系為:
當(dāng)所述開關(guān)閥門開啟時,控制所述聯(lián)動閥門關(guān)閉干燥區(qū)間排氣門;當(dāng)所述開關(guān)閥門關(guān)閉時,控制所述聯(lián)動閥門開啟干燥區(qū)間排氣門。
再一方面,本發(fā)明還提供一種干燥區(qū)間設(shè)備:包括上述任一項干燥區(qū)間排氣門的控制裝置。
(三)有益效果
可見,在本發(fā)明提出的一種干燥區(qū)間排氣門的控制方法和裝置及干燥區(qū)間設(shè)備中,在干燥區(qū)間排氣門的腔體內(nèi)側(cè)設(shè)置了與開關(guān)閥門聯(lián)動的一個聯(lián)動閥門,以控制當(dāng)開關(guān)閥門打開時聯(lián)動閥門關(guān)閉排氣門,當(dāng)開關(guān)閥門關(guān)閉時聯(lián)動閥門打開排氣門。當(dāng)開關(guān)閥門打開時,藥液蒸汽通過開關(guān)閥門經(jīng)干燥區(qū)間進(jìn)入工藝腔,此時聯(lián)動閥門關(guān)閉,干燥區(qū)間排氣門關(guān)閉,藥液蒸汽不易因干燥區(qū)間排氣門作用倒吸回干燥區(qū)間內(nèi);而當(dāng)開關(guān)閥門關(guān)閉時,聯(lián)動閥門開啟,干燥區(qū)間排氣門開啟,少量留存在干燥區(qū)間內(nèi)的藥液蒸汽或水汽會隨干燥區(qū)間排氣門排出,使得干燥區(qū)間內(nèi)不會有藥液污染殘留。本發(fā)明有效降低了干燥區(qū)間的污染程度,減少了玻璃基板背面污染物的發(fā)生率,提高了設(shè)備維護(hù)的便利性和產(chǎn)品品質(zhì)。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作一簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中干燥區(qū)間和工藝腔之間的藥液蒸汽氣流示意圖;
圖2是現(xiàn)有技術(shù)中干燥區(qū)間宏觀觀測的roller污染物示意圖;
圖3是本發(fā)明實施例中當(dāng)開關(guān)閥門開啟時,干燥區(qū)間排氣門的控制裝置示意圖;
圖4是本發(fā)明實施例中當(dāng)開關(guān)閥門關(guān)閉時,干燥區(qū)間排氣門的控制裝置示意圖;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





