[發(fā)明專(zhuān)利]一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410073485.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-02-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103834921A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王釗;林信志;張斌;倪蔚德 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/24 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 吳俊 |
| 地址: | 201506 上海市金山*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 蒸發(fā) 擋板 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
真空熱蒸發(fā)鍍膜工藝包括沉積速率、真空度、基底溫度等多種工藝控制方式,其中沉積速率控制主要決定了光學(xué)薄膜的聚集密度和厚度均勻性,對(duì)膜厚的控制也有直接的影響,不同的沉積速率可使薄膜的光譜性能和機(jī)械性能產(chǎn)生顯著的差異。真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要以調(diào)節(jié)蒸發(fā)電流或者電子束電流來(lái)控制材料的蒸發(fā)速率,通過(guò)擋板的旋轉(zhuǎn)來(lái)控制鍍膜過(guò)程的開(kāi)始和結(jié)束。
現(xiàn)行大部分的蒸發(fā)源擋板都是直接采用金屬擋板稍微加工后便投入使用,這樣的擋板存在以下幾個(gè)技術(shù)缺點(diǎn):
1、對(duì)材料的阻擋效果不明顯,容易造成材料的交叉污染。如果金屬擋板的面積過(guò)小,或者當(dāng)材料蒸發(fā)速率比較大的情況,金屬擋板對(duì)材料的吸附效率不好就會(huì)造成材料交叉污染;
2、吸附的材料容易脫落,造成坩堝堵孔。由于材料沉積到擋板上面的均與性是不一樣的,這就會(huì)導(dǎo)致沉積到擋板上面的材料的內(nèi)應(yīng)力不均衡,重量不均衡,就會(huì)很容易導(dǎo)致材料脫落;
3、普通的蓋式擋板,容易在邊沿處形成材料的堆積導(dǎo)致材料的溢出。由于試驗(yàn)線(xiàn)腔體較小,一般設(shè)計(jì)的蓋式擋板面積都比較小,而且又不能保證蒸發(fā)源處于擋板正中間位置,這樣就會(huì)導(dǎo)致材料在邊沿處堆積,導(dǎo)致材料脫落或者材料溢出甚至有堵孔現(xiàn)象發(fā)生。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的是提供一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),以解決現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明的目的是通過(guò)下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,包括若干個(gè)相互鄰接但是不接觸的金屬擋板;
所述金屬擋板包括弧形遮擋面,所述遮擋面背向所述蒸發(fā)源的一面為凸面,所述遮擋面朝向所述蒸發(fā)源的一面為凹面,并且相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的遮擋面的弧面角度一致;
所述遮擋面的兩端分別向所述蒸發(fā)源的方向折彎后形成兩條相同長(zhǎng)度的下邊沿,所述下邊沿與所述遮擋面之間形成內(nèi)凹口。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,兩條所述下邊沿相互平行。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿長(zhǎng)度不一致。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,設(shè)相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿長(zhǎng)度分別為a和b且a>b,所述遮擋面的弧面角度均為K,所述內(nèi)凹口的高度為c,則相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的重疊距離L滿(mǎn)足以下公式:
L=(a-b-c)/tanK。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,兩條所述下邊沿分別向內(nèi)傾斜或向外傾斜。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,所述遮擋面內(nèi)部鋪設(shè)有冷卻水管,所述冷卻水管與外部冷水源連通。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,所述遮擋面的凹面上還具有若干內(nèi)凹面,以增加所述凹面的表面積。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,所述遮擋面的凹面表面粗糙。
上述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其中,所述金屬檔板的內(nèi)凹口與所述下邊沿的交界處設(shè)計(jì)有倒角。
與已有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果在于:
1)遮擋面的兩端設(shè)計(jì)成內(nèi)凹口的樣式,可以避免邊沿設(shè)計(jì)成直角樣式材料大量堆積在邊沿的情況,并且可以通過(guò)稍微更改金屬擋板的高度與邊沿高度的比例來(lái)降低兩個(gè)相鄰金屬擋板互相碰撞的危險(xiǎn);
2)在金屬擋板的材料里面鋪設(shè)冷卻水管,可以使得金屬擋板表面保持在一個(gè)較低的溫度,增加材料在金屬擋板表面的附著率,大大降低材料交叉污染的風(fēng)險(xiǎn);
3)增加金屬擋板遮擋面的彎曲度和凹面的粗糙度,以增加材料附著面積和材料附著力道,避免材料出現(xiàn)脫落;
4)金屬擋板的遮擋面的背向蒸發(fā)源的一面設(shè)計(jì)成凸面,以防止蒸鍍速率很大時(shí)出現(xiàn)材料急速堆積而導(dǎo)致材料脫落和堵孔的情況發(fā)生。
附圖說(shuō)明
構(gòu)成本發(fā)明的一部分的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解,本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1是本發(fā)明蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
需要說(shuō)明的是,在不沖突的情況下,本發(fā)明中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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