[發(fā)明專利]一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410073485.7 | 申請日: | 2014-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN103834921A | 公開(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王釗;林信志;張斌;倪蔚德 | 申請(專利權(quán))人: | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 吳俊 |
| 地址: | 201506 上海市金山*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 蒸發(fā) 擋板 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,包括若干個(gè)相互鄰接但是不接觸的金屬擋板;
所述金屬擋板包括弧形遮擋面(4),所述遮擋面(4)背向所述蒸發(fā)源的一面為凸面,所述遮擋面(4)朝向所述蒸發(fā)源的一面為凹面,并且相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的遮擋面(4)的弧面角度一致;
所述遮擋面(4)的兩端分別向所述蒸發(fā)源的方向折彎后形成兩條相同長度的下邊沿(6),所述下邊沿(6)與所述遮擋面(4)之間形成內(nèi)凹口(1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,兩條所述下邊沿(6)相互平行。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿(6)長度不一致。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,設(shè)相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的下邊沿(6)長度分別為a和b且a>b,所述遮擋面(4)的弧面角度均為K,所述內(nèi)凹口(1)的高度為c,則相鄰兩個(gè)所述金屬擋板的重疊距離L滿足以下公式:
L=(a-b-c)/tanK。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,兩條所述下邊沿(6)分別向內(nèi)傾斜或向外傾斜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,所述遮擋面(4)內(nèi)部鋪設(shè)有冷卻水管(2),所述冷卻水管(2)與外部冷水源連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,所述遮擋面(4)的凹面上還具有若干內(nèi)凹面(3),以增加所述凹面的表面積。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,所述遮擋面(4)的凹面表面粗糙。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述蒸發(fā)源擋板結(jié)構(gòu),其特征在于,所述金屬檔板的內(nèi)凹口(1)與所述下邊沿(6)的交界處設(shè)計(jì)有倒角(5)。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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