[發明專利]一種保護膜的真空鍍膜方法

有效

• 申請號: 201410071761.6
• 申請日: 2014-02-28
• 公開（公告）號: CN103774143A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 黃偉雄
• 申請（專利權）人: 東莞星暉真空鍍膜塑膠制品有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;C23C16/44;C23C14/26
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 卞華欣

技術領域

本發明涉及金屬膜上鍍保護膜的技術領域，具體涉及一種保護膜的真空鍍膜方法。

背景技術

真空鍍膜能在金屬、半導體、絕緣體、塑料、紙張、織物等表面上沉積金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有機聚合物等的薄膜，應用范圍廣。但金屬膜的表面化學性質比較不穩定，容易受到環境的影響，容易出現發黃，發黑，皸裂，發霧，發白等不良情況。因此一般都需要在金屬膜上鍍保護膜，傳統的保護膜鍍膜采用蒸發鍍或電子槍鍍SiO₂、AL₂O₃等材料，采用的是物理氣相沉積技術，屬于物理變化，直接將保護材料鍍在產品表面，鍍層與基材的結合性能不夠牢固，膜層的致密性不夠好，具體有如下幾點缺點：

1、降低了金屬膜的反射率。有些金屬是非?；顫姷慕饘?，如鋁、鐵、鎂等，當應用到反光杯時，則需要較強的反光率，但是若采用傳統的噴涂或浸涂方式制備保護膜時，當金屬膜在真空室放氣開門的瞬間，金屬膜的表面就會被空氣中的氧氣所氧化，而且通常鍍好膜后需要數分鐘到數小時才能噴涂或浸涂透明油漆，因此會進一步惡化金屬膜的表面。

2、成本高。無論是噴涂還是浸涂，都需要使用大量的涂料，而且還要經過熱固化或者光固化，都會消耗大量的材料和能源。

3、不良率高。因為多了一道工序，即使在無塵車間，也多少會產生塵點，異物污染等不良品，從而增加成本。

4、效率低。因為金屬膜的表面增加了一道透明油漆，這個油漆的厚度在0.01-0.03mm左右，會降低金屬膜本身的反射率。

5、精度差。因為現代的光學器件的精度要求非常高，通常都要求尺寸公差在+/-0.01mm左右，而0.01-0.03mm的油漆厚度會影響產品的表面形狀。因為油漆是液體的，會受到重力和表面張力的影響，因此油漆膜在產品的表面并不均勻，尤其是產品表面形狀變化比較大的時候，特別是有磨砂紋或特別的紋路的時候，油漆的流平現象可以完全覆蓋或者嚴重影響這些條紋，從而嚴重影響產品的表面性能。

專利申請號200710004978.5，發明名稱為再次沉積的非晶硅薄膜，公開了一種新穎的非晶硅薄膜的形成方法。這個依賴于等離子體增強化學氣相沉積過程的方法由兩步組成，第一步是將硅材料沉積在平行雙電極的負電極表面上；第二步是將基板放置在正電極上，利用直流輝光放電的氫等離子體蝕刻的非對稱性將負極表面的硅材料轉移到基板上。如此生成的非晶硅具有改善的光電子性能和穩定性，且便于在極大面積基板上形成均勻膜層，此種方式是蝕刻，它需要將硅材料沉積在負電極表面，再通過轉移到基板上，步驟程序麻煩，對比文件需要使用的氣體是純氣體，不能參雜其他雜質，成本高。

發明內容

本發明的目的是針對現有技術中的不足，提供一種保護膜的真空鍍膜方法，其具有生產效率高，成本低，保護膜致密性好，保護性能強，適用范圍廣的特點。

本發明的目的通過以下技術方案實現：

一種保護膜的真空鍍膜方法，包括以下制備步驟：

步驟1：抽真空：將待鍍膜產品置于真空室，然后抽真空至5*10^-3?Pa?-?6*10^-2Pa，真空度越高，鍍膜的效果越好，但成本會越高，因此，選擇5*10^-3?Pa?-?6*10^-2Pa的真空度，能夠得到質量優良的膜，并且設備成本較低，降低產品的成本，提高產品的競爭力。

步驟2：鍍金屬膜：利用蒸發式鍍金屬膜的工藝鍍金屬膜；即通過加熱蒸發金屬物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜，蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待系統抽至高真空后，加熱坩堝或熱絲使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣體分子與殘余氣體分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏，是目前較為成熟的鍍膜技術。具體的加熱溫度，根據每種不同金屬的特性調整。