[發明專利]基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201410067361.8
• 申請日: 2014-02-26
• 公開（公告）號: CN103838044B
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發明（設計）人: 劉冬妮;王強濤;金熙哲
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/77
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司11274
• 代理人: 申健

1.一種基板，其特征在于：包括襯底基板，以及形成于所述襯底基板上的黑矩陣和公共金屬層；其中，所述公共金屬層與所述黑矩陣的圖形相同；還包括第一透明電極和第二透明電極，所述第一透明電極為公共電極，所述第二透明電極為像素電極，該公共電極直接覆蓋在所述公共金屬層上；或者，所述第一透明電極為像素電極，所述第二透明電極為公共電極，該公共電極與所述公共金屬層電連接。

2.根據權利要求1所述的基板，其特征在于：所述基板為彩膜基板，所述基板還包括形成于所述襯底基板上的彩膜層。

3.根據權利要求1所述的基板，其特征在于：所述基板為陣列基板，所述基板還包括形成于所述襯底基板上的薄膜晶體管單元。

4.根據權利要求3所述的基板，其特征在于：還包括形成于薄膜晶體管單元上方的樹脂層，以及形成于所述樹脂層下方的彩膜層。

5.一種基板的制造方法，其特征在于，包括：在襯底基板上形成黑矩陣和公共金屬層的圖形，所述黑矩陣和所述公共金屬層的圖形相同；在所述在襯底基板上形成黑矩陣和公共金屬層的圖形之后，還包括：

形成第一透明電極的圖形；

形成保護層的圖形；

形成第二透明電極的圖形。

6.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，還包括：

在襯底基板上形成彩膜層的圖形。

7.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，在所述在襯底基板上形成黑矩陣和公共金屬層的圖形之前，還包括：

形成薄膜晶體管單元；

形成樹脂層的圖形。

8.根據權利要求7所述的制造方法，其特征在于，在所述在襯底基板上形成薄膜晶體管單元之后，還包括：

形成彩膜層的圖形。

9.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述形成黑矩陣和公共金屬層的圖形，具體為：

形成黑矩陣層；

利用掩膜版，對所述黑矩陣層進行光刻工藝，形成黑矩陣的圖形；

形成公共金屬層；

利用所述掩膜版，對所述公共金屬層進行光刻工藝，形成公共金屬層的圖形。

10.根據權利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述形成黑矩陣和公共金屬層的圖形，具體為：

形成黑矩陣層；

在所述黑矩陣層上形成公共金屬層；

利用掩膜版，對所述公共金屬層進行光刻工藝，形成公共金屬層的圖形；

以所述公共金屬層的圖形作為掩膜，對所述黑矩陣層進行灰化工藝，形成黑矩陣的圖形。

11.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1至4任一項所述的基板。