[發明專利]成膜裝置、成膜方法以及有機電發光元件的制造方法

無效

• 申請號: 201410065916.5
• 申請日: 2006-02-22
• 公開（公告）號: CN103820755A
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 片岡達哉;長尾兼次;齊藤謙一
• 申請（專利權）人: 三井造船株式會社;長州產業株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張勁松

本申請是申請日為2006年2月22日，申請號為200680001579.7，發明名稱為“成膜裝置、成膜方法以及有機電發光元件的制造方法”，申請人為三井造船株式會社、長州產業株式會社的中國發明專利申請的分案申請。

技術領域

本發明是關于一種成膜裝置、成膜方法以及有機電發光(EL)元件的制造方法。

背景技術

在用以于基板上形成規定圖案的成膜裝置中，包括：呈平面狀地保持基板的夾頭、形成規定的開口圖案并由磁性材料所構成的掩模以及該掩模固定于基板上的磁鐵。而且，在成膜時，基板被安裝保持在夾頭的表面，在該基板上覆蓋掩模。該掩模由設置在夾頭背面的磁鐵的磁力固定于基板上。

接著，在關于薄膜形成裝置而公開的專利文獻1中，記載有：通過在掩模固定于基板上之時，使永久磁鐵遠離基板，在掩模覆蓋于基板之后，使永久磁鐵接近于基板，而防止掩模的位置偏離，防止圖案不良的發生。

[專利文獻]日本特開2004-79349號公報

一般使用的掩模通過掩模框固定掩模薄膜周邊。掩模薄膜是由形成規定的開口圖案的磁性材料所構成的薄金屬系的薄膜狀。此外，掩模框是保持掩模薄膜周圍的硬框架型構造。在成膜后而從基板離開這樣的掩模的情況下，產生由磁鐵的磁力將掩模薄膜吸引至基板側而彎曲的問題。也就是說，相反于磁鐵的磁力將掩模從基板強制地離開，如果進行數次的拆裝，則延伸掩模薄膜，開口圖案是也同樣地進行歪斜及變形。在開口圖案進行變形時，具有在基板上無法得到正確的成膜圖案的問題。

此外，假設在掩模離開基板時，即使磁鐵遠離基板而減弱作用于掩模的磁力的影響，也在無限制地移動磁鐵時，有在該移動中來花費時間的問題。特別是在有機EL(Electroluminescence：電發光)元件的制造中，為了提高生產量而要求制造時間的縮短，因此，在無限制地移動磁鐵時，存在花費由此所產生制造時間的問題。

本發明的目的是提供一種實現縮短制造時間的成膜裝置、成膜方法以及有機EL(電發光)元件的制造方法。第二目的是提供一種能夠實現防止掩模變形的成膜裝置、成膜方法以及有機EL(電發光)元件的制造方法。

發明內容

為了達成所述的目的，因此，本發明的成膜裝置是能夠把掩模與基板接合而形成對應于掩模圖案的薄膜的成膜裝置，其特征在于：由磁性體形成所述掩模，具有把該掩模與所述基板接合的磁鐵，所述磁鐵通過放置在對所述掩模的吸附作用所到達的限度位置以內的移動限制裝置進行行程限制。

此外，其特征在于：所述的磁鐵是設置在對應于所述掩模平面尺寸的面積范圍，使作用于所述掩模中央部的磁力比作用于所述掩模周邊部的磁力弱。

此外，其特征在于：多個所述磁鐵設置在磁鐵配置板上。在該狀態下，可以使多個磁鐵呈平面地配列在平面上的格子點位置。

此外，所述移動限制裝置是設置在裝設基板的夾頭，能夠對于與所述夾頭進行離合的磁鐵進行行程限制。在該狀態下，所述夾頭及所述掩模是能夠成為在水平方向可旋轉的結構。所述移動限制裝置如果利用固定螺絲而構成，則能夠成為更加簡單的結構。

此外，本發明的成膜方法是在夾入基板的位置來配置掩模和磁鐵、由所述磁鐵的磁力固定覆蓋于所述基板的所述掩模并且將對應于設置在所述掩模的開口圖案的形狀形成于所述基板的表面的成膜方法，其特征在于：能夠在夾住的基板的背面側，離合移動所述磁鐵，并且，在將由磁力所產生的吸附力到達所述基板表面側的掩模的限度的位置作為最大隔離位置的范圍內，所述磁鐵進行行程限制，重復地進行在該行程限制的范圍移動磁鐵并且在磁鐵的最大隔離位置時使掩模從基板離開并且成為基板的交換而進行成膜。在該狀態下，所述掩模是可以在基板的夾住之前，預先地與基板面接合，在以該接合狀態下進行夾住后，使所述磁鐵進行接近移動而使掩模吸附于基板面。

此外，一種成膜方法是在夾入基板的位置來配置掩模和磁鐵而將對應于設置在所述掩模的開口圖案的形狀形成于所述基板的表面的成膜方法，其特征在于，包括：在所述基板和所述掩模對位后，將所述掩模覆蓋在所述基板的工序；使配置在從所述基板離開的位置的所述磁鐵接近所述基板，由所述磁鐵的磁力而固定所述掩模的工序；在所述基板的表面形成膜的工序；使所述磁鐵向遠離所述基板方向移動的工序；以及使所述掩模向遠離所述基板方向移動的工序。