[發明專利]吸附劑、吸附劑的制造方法、水處理系統及水處理罐

無效

• 申請號: 201410063135.2
• 申請日: 2014-02-25
• 公開（公告）號: CN104226254A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發明（設計）人: 鈴木昭子;辻秀之
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: B01J20/22
• 分類號: B01J20/22;B01J20/30;C02F1/28
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 王永紅

技術領域

實施方式涉及吸附劑、吸附劑的制造方法、水處理系統及水處理罐。

背景技術

金屬長期以來多用于產業上，由于其大多是有害的，因此，因被污染的工廠排水，過去曾經引起各種各樣的公害。近年來，金屬雖然被去除至極低濃度，但其去除技術大部分是凝集沉淀處理，金屬被污泥化后進行填埋處置。金屬如果被排放是有害的，但如果被回收的話，變為有價值的物質也不少?；厥杖芤褐泻械慕饘俚姆椒膳e出沉淀分離法、電解法、溶劑提取法、離子交換樹脂法、螯合物樹脂法等，排水的重金屬處理經常使用可處理至極低濃度的螯合物樹脂法。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：特許第3481617號

發明內容

發明所要解決的課題

實施方式提供具有高選擇性的吸附劑。

用于解決課題的手段

實施方式的吸附劑是在表面具備具有雙齒氮螯合物官能團的配體的無機多孔質體，在紅外吸收光譜的1375cm^-1以上1400cm^-1以下附近觀測到的源自雙齒配體的峰的半峰全寬為5cm^-1以上50cm^-1以下。

附圖說明

圖1是使用實施方式的吸附劑的水處理系統的概念圖；

圖2是與配管連接的水處理罐的概念圖；

圖3是實施方式的吸附劑的傅里葉變換紅外分光分析的光譜；

圖4是表示實施例1和比較例1的吸附劑的吸附試驗結果的圖；

圖5是表示實施例8的吸附劑的吸附試驗結果的圖。

符號說明

T1、T2：水處理用柱、P1：泵、M1、M2、M3：濃度測定裝置、C1：控制裝置、W1：排水貯存罐、L1、L2、L4：排水供給管線、L3、L5、L6：排水排出管線、V1、V2、V3、V4、V5：閥門、X1、X2：接觸效率促進裝置、1：吸附劑、2：罐、3：隔板、4：配管

具體實施方式

(吸附劑)

本實施方式的吸附劑在無機多孔質體的表面具備具有雙齒氮螯合物官能團的配體。以下，對各構成要素進行詳述。予以說明，吸附對象是向螯合物配位的離子。實施方式的吸附劑是將吸附對象的離子用于鑄型模并進行刻印的物質。金屬離子是與雙齒氮螯合物官能團形成螯合物結構的金屬離子。其中，從選擇性的觀點考慮，優選將第四周期的過渡金屬即Mn、Fe、Co、Ni、Cu、或Cd、Hg、Zn或Ag作為鑄型模而刻印的吸附劑。鑄型模也可以使用兩種以上的金屬離子。

＜雙齒氮螯合物官能團＞

本實施方式中使用的具有雙齒氮螯合物官能團的化合物的種類沒有特別限定，但優選下述含有配體的化合物。作為具有實施方式的官能團的化合物，可以舉出容易獲得的N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基)丙基二甲氧基甲基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基)丙基三乙氧基硅烷、N-(3-(二甲氧基甲基甲硅烷基)異丁基)乙二胺。

＜配體＞

實施方式的吸附劑含有具有雙齒氮螯合物官能團的配體，配對的二分子氮螯合物官能團中所含有的四個氮成為一組。而且，不論哪個氮都存在于附近。實施方式的配體不是通過聚合物母體刻印鑄型模，而是存在于載體上。具有該官能團的配體優選具有乙二胺結構的配體。實施方式的吸附劑若用傅里葉變換紅外分光分析進行測定，則在1375cm^-1以上1400cm^-1以下附近具有源自配體的峰。實施方式的吸附劑優選該1375cm^-1以上1400cm^-1以下附近的峰的半峰全寬窄。該峰的半峰全寬通過吸附對象物的刻印而變窄。認為這是因為配體的修飾結構收斂成與刻印相對應的結構。予以說明，因峰漂移或峰寬不同，有在1375cm^-1以上1400cm^-1以下的范圍不含源自配體的峰的情況，因此使用稱為源自配體的峰附近的詞句對其進行了規定。在此，所謂附近，作為具體例為±50cm^-1(1325cm^-1以上1450cm^-1以下)，但在峰漂移或峰寬大的情況下，并不限定于此。