[發明專利]制造有機發光顯示設備的方法

有效

• 申請號: 201410059747.4
• 申請日: 2014-02-21
• 公開（公告）號: CN104347665B
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 崔宰赫;樸鎮宇;李雄洙;崔修赫
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 薛義丹;尹淑梅

1.一種制造有機發光顯示設備的方法，所述方法包括以下步驟：

設置低熔點玻璃薄膜以覆蓋設置在基板上的顯示單元，以及

將能束輻射到低熔點玻璃薄膜上，將低熔點玻璃薄膜的暴露的表面加熱到加熱溫度，所述加熱溫度為低熔點玻璃薄膜的玻璃化轉變溫度或為高于低熔點玻璃薄膜的玻璃化轉變溫度的溫度，

其中，在含氧的氣氛中執行能束的輻射。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，能束包括激光束、電子束、離子束、中子束、等離子體束和脈沖激光束中的任意一種。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，能束具有紅外波長和紫外波長中的任意一種波長。

4.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括在輻射能束的過程中對基板進行冷卻。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，低熔點玻璃薄膜包括錫氧化物，并且低熔點玻璃薄膜的玻璃化轉變溫度為250℃至400℃。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，低熔點玻璃薄膜還包括P₂O₅、鎢、硼、鈮、TiO₂、ZnO、SiO₂、BaO、Al₂O₃和B₂O₃中的至少一種。

7.根據權利要求5所述的方法，其中，錫氧化物包括SnO，通過輻射能束在低熔點玻璃薄膜的表面上SnO被氧化成SnO₂。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，低熔點玻璃薄膜的玻璃化轉變溫度高于顯示單元的變形溫度。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，設置低熔點玻璃薄膜的步驟包括濺射、蒸鍍、化學氣相沉積、脈沖激光沉積和等離子體噴涂中的任意一種。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，基板包括玻璃基板。

11.根據權利要求1所述的方法，其中，基板包括柔性基板。

12.一種使用低熔點材料制造密封結構的方法，所述方法包括以下步驟：

設置低熔點材料以密封設置在基板上的密封對象，低熔點材料的玻璃化轉變溫度低于SiO₂的轉變溫度，以及

將能束輻射到低熔點材料上，以將低熔點材料的暴露的表面加熱到加熱溫度，所述加熱溫度為低熔點材料的玻璃化轉變溫度或為高于低熔點材料的玻璃化轉變溫度的溫度，

其中，在含氧的氣氛中執行能束的輻射。

13.根據權利要求12所述的方法，其中，輻射能束的步驟包括對所述加熱溫度和能束的輻射時間進行控制，從而使能束的輻射不會使密封對象劣化或損壞。

14.根據權利要求12所述的方法，其中，輻射能束的步驟包括基于密封對象的變形溫度對所述加熱溫度和能束的輻射時間進行控制。

15.根據權利要求12所述的方法，其中，密封對象包括有機發光顯示設備，低熔點材料包括低熔點玻璃薄膜。

16.根據權利要求15所述的方法，其中，低熔點玻璃薄膜包括SnO，以及

其中，通過能束的輻射將低熔點玻璃薄膜的暴露的表面氧化成SnO₂。

17.根據權利要求15所述的方法，其中，低熔點玻璃薄膜的玻璃化轉變溫度為250℃至400℃。

18.根據權利要求12所述的方法，所述方法還包括對基板進行冷卻。