[發明專利]圖案形成裝置及圖案形成方法

無效

• 申請號: 201410058971.1
• 申請日: 2014-02-21
• 公開（公告）號: CN104002546A
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發明（設計）人: 正司和大;川越理史;上野博之;芝藤彌生;增市干雄;上野美佳
• 申請（專利權）人: 大日本網屏制造株式會社
• 主分類號: B41F16/00
• 分類號: B41F16/00;B41M5/00
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 董雅會;郭曉東

技術領域

本發明涉及通過版對擔載于橡皮布上的圖案形成材料進行圖案成形，或者將所形成的圖案轉印至基板來形成圖案的圖案形成裝置以及圖案形成方法。

背景技術

存在如下在玻璃基板、半導體基板等基板上形成圖案的技術，即，使擔載有圖案的橡皮布緊貼于基板上來將圖案轉印至基板。另外，存在如下使圖案擔載于橡皮布上的技術，即，使版（負片版（negative?plate））壓力接觸由圖案形成材料形成在橡皮布表面上的均勻的膜上，使該膜中的不需要的部分附著于版上來除去，從而僅將成為圖案的部分留在橡皮布上來進行圖案形成（圖案成形）。

作為這樣的一個技術，例如將日本特開平07-125179號公報所記載的印刷技術應用于圖案轉印中。例如在日本特開2002-036499號公報所記載的技術中，將向一個方向賦予張力來架設在機架上的版以相對于基板傾斜的狀態配置在基板的上方，通過沖壓輥將版從一端部依次按壓于基板上，然后剝離版，從而將版上的圖案轉印至基板。

在上述現有技術中，版和基板的對位精度有改進的余地。即，在上述技術中，為了使輥抵接，需要以使版的上表面開放的狀態保持版，為了防止版因自重而彎曲從而與基板發生接觸的情況，必須使版和基板之間的初始空隙大到某種程度。因此，在從該狀態下使兩者接近來按壓的過程中容易產生位置偏移。另外，在基板和版接近的一端側能夠進行對位，但是在另一端側不能進行對位，另外，從一端依次按壓的過程中，可能使位置偏移逐漸變大。

發明內容

本發明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供如下技術，即，在使版或者基板與橡皮布抵接來進行圖案形成的圖案形成裝置以及圖案形成方法中，能夠使版或者基板與橡皮布以高的位置精度抵接。

本發明的圖案形成裝置，為了達到上述目的，具有：第一保持單元，具有多個分別與橡皮布的下表面的局部抵接的局部支撐部，多個所述局部支撐部以一面上擔載有圖案形成材料的所述橡皮布的所述圖案形成材料的擔載面朝上的方式在下表面側與所述橡皮布相抵接，從而將所述橡皮布支撐為水平姿勢；第二保持單元，將用于對所述圖案形成材料進行圖案成形的版或者要被轉印圖案的基板作為處理對象物，以使該處理對象物與被所述第一保持單元保持的所述橡皮布的上表面接近且相向的方式，保持該處理對象物；托起構件，從所述橡皮布的下表面側局部地托起所述橡皮布中央部的有效區域，來使所述有效區域與被所述第二保持單元保持的所述處理對象物相抵接，而且沿著所述橡皮布的下表面移動來使所述橡皮布的托起位置發生變化；升降單元，能夠使多個所述局部支撐部分別單獨地升降。

在這樣構成的發明中，從以相向的方式配置在處理對象物（版或者基板）的下方的橡皮布的下表面側局部托起橡皮布，從而使橡皮布抵接于處理對象物。在這樣的結構中，在保持上側所配置的處理對象物時，不受到特別的限制，因此能夠在抑制彎曲的狀態下保持。另一方面，配置于下側的橡皮布在中央部開放的狀態下，可能因自重而向下方彎曲。因此，在本發明中，使局部支撐部從橡皮布的下表面抵接于橡皮布的中央部的局部。由此，能夠防止橡皮布彎曲并維持水平姿勢。

因此，與現有技術相比，能夠使處理對象物和橡皮布更加接近，將兩者之間的間隙設定為極其小的值。另外，能夠使處理對象物和橡皮布以彼此平行的方式配置。因此，能夠在這樣使兩者接近的狀態下進行對位，并且在接近的狀態下托起橡皮布來使其抵接于處理對象物的相對移動量小，因此還能夠將它們之間的位置偏移抑制得小。

多個局部支撐部能夠分別單獨地升降，因此能夠彼此獨立地與橡皮布分離或抵接。因此，能夠使隨著托起構件移動而可能成為該托起構件移動的障礙的局部支撐部與橡皮布分離并退避，不會使局部支撐部干涉托起構件的移動。

從這一點來說，根據本發明，能夠使作為處理對象物的版或者基板與橡皮布以高的位置精度相抵接。此外，這里所說的處理對象物和橡皮布之間的抵接是指如下概念，即，包含隔著擔載于橡皮布的擔載面的圖案材料使兩者相抵接的情況。

例如能夠在局部支撐部分別與橡皮布的下表面抵接的狀態下，隨著托起構件移動而使局部支撐部分別依次下降。更具體地說，例如多個局部支撐部能夠沿著托起構件的移動方向排列，升降單元以沿著托起構件的移動方向的順序使局部支撐部下降。這樣能夠在托起構件未到達的位置上通過局部支撐部支撐橡皮布，另一方面，隨著托起構件接近，使局部支撐部下降，從而能夠避免托起構件和局部支撐部發生干涉。