[發明專利]用于確定掩模圖案的方法及信息處理裝置有效
| 申請號: | 201410058925.1 | 申請日: | 2014-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN104007608B | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發明(設計)人: | 中山諒;行田裕一 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/36 | 分類號: | G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 魏小薇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 確定 圖案 方法 記錄 介質 信息處理 裝置 | ||
1.一種用于通過使用信息處理裝置來確定用于多個掩模的圖案的方法,所述方法包括:
獲取關于包含多個圖案元素的圖案的數據;以及
將所獲取的多個圖案元素分配到掩模中,將所獲取的多個圖案元素分解為所述掩模的圖案,并且基于掩模的數量、每個掩模中的多個圖案元素之間的距離、以及連接每個掩模中的多個圖案元素的線的角度來計算用于評價指標的評價值,
其中評價指標具有由所述線的角度和表示適于照射每個掩模的有效光源分布的極性的預定角度之差定義的項,
其中所述預定角度具有在掩模之間不同地設置的值,
其中,基于所計算出的評價值來確定每個掩模的圖案。
2.如權利要求1所述的方法,其中,所述項具有隨著連接掩模中的多個圖案元素的線的角度與所述預定角度之間的差從0度增大并且接近90度而變得比0度的評價壞的評價指標的評價值。
3.如權利要求1所述的方法,其中,所述評價指標還包含由多個圖案元素之間的最小距離定義的項。
4.如權利要求1所述的方法,其中,通過將所述評價指標定義為代價函數并且將每個掩模中的多個圖案元素之間的距離和用于連接多個圖案元素的線的角度的約束條件定義為混合整數規劃問題,來用混合整數規劃確定每個掩模的圖案。
5.如權利要求1所述的方法,其中,針對其之間的距離落入預定范圍內的多個圖案元素的評價來計算所述評價指標的評價值。
6.如權利要求1所述的方法,其中,所述多個圖案元素是用于切割襯底上所形成的線圖案的圖案。
7.如權利要求1所述的方法,其中,所確定的掩模圖案是包含縱向對齊的多個圖案元素的第一掩模圖案以及包含橫向對齊的多個圖案元素的第二掩模圖案。
8.如權利要求1所述的方法,還包括:確定在照射所確定的掩模圖案中的每一個的照射光學系統的光瞳平面上所形成的光強度分布。
9.如權利要求1所述的方法,其中,通過重復改變用于將所獲取的多個圖案元素分配到掩模中并且將所獲取的多個圖案元素分解為所述掩模的圖案的分解來計算所述評價指標的評價值,并且基于通過重復改變所述分解所計算出的所述評價值來確定用于每個掩模的圖案。
10.一種確定用于多個掩模的圖案的信息處理裝置,所述信息處理裝置包括:
處理單元,被配置為:獲取關于包含多個圖案元素的圖案的數據,將所獲取的多個圖案元素分配到掩模中,將所獲取的多個圖案元素分解為所述掩模的圖案,并且基于掩模的數量、每個掩模中的多個圖案元素之間的距離、以及連接每個掩模中的多個圖案元素的線的角度來計算用于評價指標的評價值,
其中評價指標具有由所述線的角度和表示適于照射每個掩模的有效光源分布的極性的預定角度之差定義的項,
其中所述預定角度具有在掩模之間不同地設置的值,
其中,所述處理單元基于所計算出的評價值來確定每個掩模的圖案。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





