[發(fā)明專利]一種球形氧化鈰多孔磨料及其在超精密拋光中的用途有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410055497.7 | 申請日: | 2014-02-18 |
| 公開(公告)號: | CN103818943A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳揚;陳愛蓮;錢均超 | 申請(專利權(quán))人: | 常州大學(xué) |
| 主分類號: | C01F17/00 | 分類號: | C01F17/00;C09K3/14;C09G1/02;B24B37/04 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 樓高潮 |
| 地址: | 213164 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 球形 氧化 多孔 磨料 及其 精密 拋光 中的 用途 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及多孔結(jié)構(gòu)的無機磨料,特指一種球形氧化鈰多孔磨料及其在超精密拋光中的用途。
背景技術(shù)
化學(xué)機械拋光(Chemical?Mechanical?Planarization,CMP)作為一種化學(xué)作用和機械作用相結(jié)合的超精密加工技術(shù),被廣泛應(yīng)用于計算機硬盤、精密光學(xué)系統(tǒng)、藍(lán)寶石襯底以及超大規(guī)模集成電路的加工制造環(huán)節(jié);拋光漿料主要由超微磨粒以及各種化學(xué)添加劑所組成,其中磨料的種類和結(jié)構(gòu)等性質(zhì)對加工表面質(zhì)量具有重要影響。
近年來,具有特殊的結(jié)構(gòu)的新型磨料引起廣泛關(guān)注,具有多孔結(jié)構(gòu)的無機磨料便是其中的一個研究熱點;例如,梁艷等以正硅酸乙酯為硅源、十六烷基三甲基溴化銨為表面活性劑,制備了介孔氧化硅磨料,提高了銅的化學(xué)機械拋光表面質(zhì)量(梁艷.納米介孔氧化硅的合成及其CMP性能研究?[D].?沈陽:中科院沈陽金屬研究所,2004.);再如,雷紅等以十二烷基硫酸鈉和P123為表面活性劑,分別通過水熱法和溶膠-凝膠法合成了Al2O3(H.?Lei,?X.?Wu,?R.?Chen.?Preparation?of?porous?alumina?abrasives?and?their?chemical?mechanical?polishing?behavior?[J].?Thin?Solid?Films,?2012,?520:?2868-2872.)、銅離子改性Al2O3(H.?Lei,?L.?Jiang,?R.?Chen.?Preparation?of?copper-incorporated?mesoporous?alumina?abrasive?and?its?CMP?behavior?on?hard?disk?substrate?[J].?Powder?Technology,?2012,?219:?99-104.)、Fe2O3/SiO2(H.?Li,?H.?Lei,?R.?Chen.?Preparation?of?porous?Fe2O3/SiO2?nanocomposite?abrasives?and?their?chemical?mechanical?polishing?behaviors?on?hard?disk?substrates?[J].?Thin?Solid?Films,?2012,?520:?6174-6178.?)及Al2O3/CeO2多孔磨粒(S.?Chen,?H.?Lei,?R.?Chen.?Preparation?of?porous?alumina/ceria?composite?abrasive?and?its?chemical?mechanical?polishing?behavior?[J].?Journal?of?Vacuum?Science?&?Technology?B,?2013,?31:?021804?-?021804-5.);與傳統(tǒng)的Al2O3磨料相比,多孔磨料在提高計算機硬盤基片的拋光速率,以及拋光表面機械損傷等方面具有優(yōu)勢。
然而,對于超光滑表面加工而言,單分散球形磨料是最為理想的拋光介質(zhì)材料;此外,上述文獻(xiàn)中多孔磨料的合成過程相對較為復(fù)雜,特別是對于水熱法和溶膠-凝膠工藝,較難控制多孔磨粒最終產(chǎn)物的形貌和結(jié)構(gòu)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明以實現(xiàn)超大規(guī)模集成電路制造中易損傷材料(Low-k薄膜和銅等)的低/無損傷超光滑表面加工為目標(biāo),提供了一種單分散球形多孔氧化鈰拋光介質(zhì)材料的制備方法;該類型氧化鈰多孔磨料有望在確保足夠材料去除率的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步降低拋光表面的機械損傷,提高表面質(zhì)量和拋光效率。
本發(fā)明首先利用LB培養(yǎng)基培養(yǎng)微球菌,利用乙醇和稀鹽酸對微球菌模板進(jìn)行預(yù)處理。再以硝酸鈰、硫酸鈰或氯化鈰為鈰源配制目標(biāo)產(chǎn)物前驅(qū)體溶液,將經(jīng)過預(yù)處理的微球菌模板浸漬在前驅(qū)體溶液當(dāng)中,經(jīng)過超聲和/或機械攪拌分散后靜置;用離心法將經(jīng)過浸漬處理后的球菌模板分離,置于鼓風(fēng)干燥箱緩慢烘干,再經(jīng)過煅燒即可獲得球形氧化鈰多孔磨料;本發(fā)明可以通過控制營養(yǎng)源、培養(yǎng)溫度、需氧量和代謝特征等因素,對微球菌模板的結(jié)構(gòu)和尺寸進(jìn)行調(diào)控,最終可以獲得不同尺寸和內(nèi)部孔結(jié)構(gòu)的球形氧化鈰多孔磨料。
本發(fā)明提供了一種球形氧化鈰磨料的新型制備方法,其特征在于具有以下的制備過程和步驟:
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