[發明專利]一種球形氧化鈰多孔磨料及其在超精密拋光中的用途

有效

• 申請號: 201410055497.7
• 申請日: 2014-02-18
• 公開（公告）號: CN103818943A
• 公開（公告）日: 2014-05-28
• 發明（設計）人: 陳揚;陳愛蓮;錢均超
• 申請（專利權）人: 常州大學
• 主分類號: C01F17/00
• 分類號: C01F17/00;C09K3/14;C09G1/02;B24B37/04
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 樓高潮

1.一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于采用如下方法制備：向球菌模板中加入蒸餾水和無水乙醇得到體系，滴入鹽酸將體系的pH值調至3，再加入鈰鹽，并將鈰離子濃度控制在0.005?mol/L～0.5?mol/L；在超聲及機械攪拌的條件下促進球菌模板在溶液中的分散，浸漬48?h-72?h后，再將球菌模板離心分離、烘干；首先將浸漬烘干后的球菌模板在氮氣保護條件下，于300?℃～600?℃下進行煅燒，保溫1?h~3?h；再將經過預煅燒的產物置于馬弗爐中，在300?℃～600?℃下進行二次煅燒，保溫1?h~3?h，經過兩步煅燒工藝后可將模板徹底去除，并最終獲得球形氧化鈰多孔磨料。

2.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于所述球菌模板采用如下方法制備：將微球菌放置在LB培養基中，再將培養皿置于恒溫恒濕箱里，在溫度為22?℃~26℃、相對濕度為30%~40%的條件下培養球菌，培養3~7天獲得尺寸在100?nm~1000?nm的球菌模板。

3.如權利要求2所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于所述LB培養基的組分如下：蒸餾水、葡萄糖、氯化鈉、魚粉蛋白胨、瓊脂和酵母浸膏，按照質量比200：1：0.5：1：4：0.5混合。

4.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：球菌模板、蒸餾水和無水乙醇按照質量與體積比0.5?g-2?g：50?mL-200?mL：2?mL-10?mL加入。

5.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：鈰鹽為硝酸鈰、硫酸鈰和氯化鈰中的任一種。

6.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：所述烘干指置于20℃~50℃鼓風干燥箱中烘干。

7.如權利要求5所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：所述鈰鹽為硝酸鈰。

8.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：鈰離子的濃度范圍在0.01?mol/l～0.1?mol/l之間。

9.如權利要求6所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：烘干溫度在30?℃～40℃之間。

10.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料，其特征在于：第一次煅燒溫度在400?℃～600?℃之間，第二次煅燒溫度在500?℃～600?℃之間，煅燒時間在1?h～2?h之間。

11.如權利要求1所述的一種球形氧化鈰多孔磨料在超精密拋光中的用途。

12.如權利要求11所述的一種球形氧化鈰多孔磨料在超精密拋光中的用途，其特征在于：將所制備的多孔氧化鈰磨料配制成拋光漿料，使用精密拋光機對硅熱氧化片進行拋光試驗。

13.如權利要求12所述的一種球形氧化鈰多孔磨料在超精密拋光中的用途，其特征在于：所述的拋光漿料采用所制備的多孔氧化鈰磨料、去離子水和十二烷基苯磺酸鈉配制而成，將多孔氧化鈰磨料加入到離子水中，配制成質量濃度為0.5wt%~10?wt%的漿料，加入漿料1?wt%的十二烷基苯磺酸鈉作為分散劑，并用氨水將漿料的pH值調至8~10，得到拋光漿料。

14.如權利要求12所述的一種球形氧化鈰多孔磨料在超精密拋光中的用途，其特征在于：所述拋光的工藝條件為拋光壓力為2~4?Psi、上盤轉速為90?r/min、下盤轉速為120?r/min、拋光時間為1?min、拋光漿料流量為100~200?mL/min。