[發明專利]勻膠版制造工藝

有效

• 申請號: 201410052503.3
• 申請日: 2014-02-14
• 公開（公告）號: CN103823330B
• 公開（公告）日: 2017-07-14
• 發明（設計）人: 石孟陽;熊波;莊奎乾;謝慶豐
• 申請（專利權）人: 深圳市科利德光電材料股份有限公司
• 主分類號: G03F1/60
• 分類號: G03F1/60;G03F1/68
• 代理公司: 深圳市翼智博知識產權事務所(普通合伙)44320
• 代理人: 李新梅

技術領域

本發明涉及勻膠版的制造，特別是涉及大尺寸勻膠版的制造工藝。

背景技術

勻膠版是一種硬面光掩模基版，具有高的感光靈敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長等特點，被廣泛應用于IC、LCD、PCB、PDP等產品掩膜版的制作，是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料。

勻膠版具有幾種常規尺寸，如450mm*550mm、406.4mm*457.2mm等，相應地勻膠版的生產設備也是根據其常規尺寸相配備的，當需要制作常用尺寸的勻膠版時，則需要更改現有的生產設備或另外制造相匹配的設備，前者會對這個制造工藝的穩定性造成一定的影響，后者則會大幅度的增加生產成本，另外，對于大尺寸的勻膠版的生產，以現有生產設備和工藝標準會存在一系列問題，如拋光機擺臂范圍超出、拋光粉痕跡清洗不掉、旋涂機功率小慣性過大等。

發明內容

有鑒于此，提供一種勻膠版制造工藝，適用于非常規的大尺寸的勻膠版的生產制造。

一種勻膠版制造工藝，包括以下步驟：拋光，提供所要生產的勻膠版提供相應尺寸的玻璃基板并進行拋光處理，所述拋光處理包括粗拋與精拋兩次拋光處理；清洗，清洗時在清洗機的水箱內增加支撐架支撐拋光后的玻璃基板，并將風刀設置于第二段對玻璃基板進行吹干；鍍膜，在清洗后的玻璃基板上先鍍一層氮化金屬膜，然后再鍍一層氮化金屬膜和一層氧化金屬膜；涂膠，在玻璃基板的膜上涂一層光刻膠，所述光刻膠采用采用靜止滴膠的方式邊旋轉邊滴膠；以及堅膜，玻璃基板在涂膠后先水平靜置，再豎立烘焙堅膜。

本發明勻膠版生成工藝在利用常規尺寸勻膠版的制造設備的基礎上，通過對各環節工藝參數的改進，生產出非常規的大尺寸的勻膠版，大幅縮減了生產成本。

附圖說明

圖1為本發明勻膠版制造工藝流程圖。

具體實施方式

以下將結合附圖及具體實施方式對本發明進行詳細說明。

本發明勻膠版制造工藝用于生產制造非常規的大尺寸的勻膠版，如規格為508mm*609mm的勻膠版等，利用現有常規尺寸的勻膠版的生產設備，最大程度上縮減生產成本。如圖1所示，本發明勻膠版的生產工藝包括以下步驟：拋光、清洗、鍍膜、涂膠以及堅膜。以下以生產508mm*609mm的勻膠版為例，對本發明勻膠版制造工藝進行詳細說明。

首先，根據所要制造的勻膠版的尺寸提供相應尺寸的玻璃基板，并對玻璃基板進行拋光處理使其達到較高的平整度與光潔度。

所述玻璃基板可以是鈉鈣玻璃板、硼硅玻璃板、石英玻璃板等。如本實施例中所使用的玻璃基板的尺寸為508mm*609mm*4.8mm，進行拋光時，缺陷點大，通過粗拋、精拋兩次拋光的方式，采用現有拋光粉，第一次粗拋按正反兩面拋光30分鐘，當缺陷被拋掉后，第二次精拋時間為正面小于1分鐘，反面1-3分鐘，把缺陷研磨在接受范圍內，同時玻璃基板背面殘留的拋光粉痕跡得到有效的處理，便于后續清洗。在拋光過程中，為避免撞到四周的圍欄，可以適當調小拋光機搖臂擺幅。

在拋光完成后，需要對玻璃基板進行清洗，去除玻璃基板表面的碎屑、灰塵、殘留的拋光粉等。

由于所使用的玻璃基板較常規尺寸大，玻璃基板的重量也相應地更大，拋光后手直接清潔很費力，可以在水箱內加一個支撐架后得到較好清洗效果。清洗時，由于風刀第一段水量較大，大尺寸的玻璃基板離風刀口太近，導致吹得不是特別干凈，第二段再用風刀吹的時候會留下印子，經過對風刀的多次試驗更換調節，將風刀由原來放置在第一段改在第二段，第一段風刀停止不用，避免一次性風刀不能吹干表面，引起的水漬現象。另外，可以相應地更改滾刷及滾刷出的嚙合齒輪，使大尺寸的玻璃基板可以順暢通過滾刷段，如將滾刷加長至510mm。

經過清洗之后，即進行鍍膜，在玻璃板上生成氮化/氧化金屬膜層。

由于常規鍍膜車架并不適合大尺寸的玻璃基板鍍膜，可以將2個限制的常規鍍膜車架更改成大尺寸玻璃基板鍍膜的專用車架。所述鍍膜包括兩次鍍膜，第一次在玻璃基板上只鍍一層氮化金屬膜，鍍膜時電流調小一倍。第一次鍍膜之后進行清洗，然后再進行第二次鍍膜，第二次鍍膜是在玻璃基板上鍍一層氮化金屬膜和一層氧化金屬膜，兩次鍍膜所形成氮化/氧化金屬膜層，針孔非常少，制版后效果顯著。

鍍膜完成后，即進行涂膠操作，在玻璃基板的氮化/氧化金屬膜層上涂覆光刻膠。