[發明專利]勻膠版制造工藝有效
| 申請號: | 201410052503.3 | 申請日: | 2014-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN103823330B | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發明(設計)人: | 石孟陽;熊波;莊奎乾;謝慶豐 | 申請(專利權)人: | 深圳市科利德光電材料股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/60 | 分類號: | G03F1/60;G03F1/68 |
| 代理公司: | 深圳市翼智博知識產權事務所(普通合伙)44320 | 代理人: | 李新梅 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 膠版 制造 工藝 | ||
1.一種勻膠版制造工藝,包括以下步驟:
拋光,根據所要生產的勻膠版提供相應尺寸的玻璃基板并進行拋光處理,所述拋光處理包括粗拋與精拋兩次拋光處理;
清洗,清洗時在清洗機的水箱內增加支撐架支撐拋光后的玻璃基板,并將風刀設置于清洗機第二段對玻璃基板進行吹干;
鍍膜,在清洗后的玻璃基板上先鍍一層氮化金屬膜之后清洗,然后再鍍一層氮化金屬膜和一層氧化金屬膜;
涂膠,在玻璃基板的膜上涂一層光刻膠,所述光刻膠采用靜止滴膠的方式邊旋轉邊滴膠;以及
堅膜,玻璃基板在涂膠后先水平靜置,再豎立烘焙堅膜。
2.如權利要求1所述的勻膠版制造工藝,其特征在于,所述粗拋按正反兩面拋光30 分鐘。
3.如權利要求1所述的勻膠版制造工藝,其特征在于,所述精拋時間為正面小于1分鐘,反面1-3分鐘。
4.如權利要求1所述的勻膠版制造工藝,其特征在于,堅膜中玻璃基板水平靜置的時間為20分鐘。
5.如權利要求1所述的勻膠版制造工藝,其特征在于,涂膠中,滴膠時間為28s,壓力為0.11MPa,滴膠段數為第二段。
6.如權利要求1所述的勻膠版制造工藝,其特征在于,所述玻璃基板為尺寸為508mm*609mm,所制造的勻膠版為尺寸為508mm*609mm。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





