[發明專利]一種掩膜板支撐裝置和清洗掩膜板的方法在審
| 申請號： | 201410050506.3 | 申請日： | 2014-02-13 |
| 公開（公告）號： | CN104849955A | 公開（公告）日： | 2015-08-19 |
| 發明（設計）人： | 張士健 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64;G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京市磐華律師事務所 11336 | 代理人： | 高偉;趙禮杰 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掩膜板 支撐 裝置 清洗 方法 | ||
1.一種掩膜板支撐裝置，其特征在于，包括用于支撐掩膜板的框架以及設置于所述框架底部并與所述框架組成容置空間的底板；其中，所述框架的外側設置有用于防止掩膜板水平移動的防滑擋板，所述防滑擋板的頂端高于所述框架的頂端。
2.如權利要求1所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述框架的各個側壁的高度相同。
3.如權利要求1所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述底板為矩形，所述框架由首尾相連的四個矩形的側壁組成，其中，每個側壁的底邊與所述底板的一條邊相連。
4.如權利要求3所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述框架的至少兩個相對的側壁之上設置有所述防滑擋板。
5.如權利要求3所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述框架的四個側壁之上均具有所述防滑擋板，并且，所述防滑擋板首尾相連形成位于所述框架外側的防滑框架。
6.如權利要求1所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述防滑擋板的底端高于所述框架的底端。
7.如權利要求1至6任一項所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述框架的頂端設置有用于吸附掩膜板的吸附裝置。
8.如權利要求1至6任一項所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述框架、所述底板與所述防滑擋板為一體成型的結構。
9.如權利要求1至6任一項所述的掩膜板支撐裝置，其特征在于，所述框架、所述底板與所述防滑擋板的材料為聚四氟乙烯。
10.一種清洗掩膜板的方法，其特征在于，所述方法包括：
步驟S101：將掩膜板放置于如權利要求1所述的掩膜板支撐裝置之上，其中，所述掩膜板的設置有掩膜板保護膜的一側朝向所述框架與所述底板組成的容置空間；
步驟S102：對所述掩膜板進行清洗并進行干燥處理；
步驟S103：從所述掩膜板支撐裝置上取下所述掩膜板。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
