[發明專利]可消除靜電的取放裝置

有效

• 申請號: 201410043954.0
• 申請日: 2014-01-29
• 公開（公告）號: CN103763845B
• 公開（公告）日: 2017-03-22
• 發明（設計）人: 劉斌
• 申請（專利權）人: 劉斌
• 主分類號: H05F3/06
• 分類號: H05F3/06;B25B11/00
• 代理公司: 深圳市中知專利商標代理有限公司44101
• 代理人: 國威

技術領域

本發明涉及α輻射源的應用，特別涉及α輻射源在取放裝置上的應用。

背景技術

靜電是困擾電子產品質量和可靠性的重要問題，從半導體、液晶顯示到組裝，幾乎所有相關領域都靜電方面的問題，而靜電防護已經成為這一領域最受關注的問題之一。這些產業在生產過程中廣泛使用的真空取放動作，而被作用物品往往都是高絕緣材料，極易產生靜電，且難以消除。目前現有的真空取放器具（設備和工具）在防靜電的處理上僅僅依靠的是防靜電材料使用，這些防靜電材料為具有導電特性的靜電導電材料、靜電耗散材料或摩擦電壓小的材料，它們雖然可以通過接地或者本身材料的特性保證自身不產生過高的靜電，但卻無法消除被作用物品上的靜電。

發明內容

本發明提供了α輻射源在取放裝置上的應用，使用本發明的α輻射源在取放裝置上可有效消除靜電。

本發明提供了一種α輻射源在取放裝置上的應用，用于消除靜電。

所述α輻射源以放射性同位素與金銀復合扎制而成。

所述α輻射源包括底層、中層和上層；

所述底層為銀,厚度為100μm以上；

所述中層由中間層和包圍在中間層側部周圍的封口層組成，所述中間層為放射性同位素或其氧化物，厚度1-10μm，所述封口層的上下表面與中間層的上下表面平齊，其外側邊緣與底層和上層的外側邊緣對齊，所述封口層為Ni、Ag或Au；

所述上層為金膜，金膜厚度為1-10μm。

所述放射性同位素為Am²⁴¹、Po²¹⁰、Pu²³⁸或Pu²³⁹。

所述α輻射源設置在取放裝置的負壓空腔或真空通路內，或設置在正對于被取放物的凹槽或負壓空腔內。

所述取放裝置為貼片機的吸頭、取放吸盤、凹槽式取放器或吸筆。

所述貼片機的吸頭包括吸嘴和連接在吸嘴上端的貼片頭部分，貼片頭部分側部與真空通路A相連通，上述α輻射源設置在貼片頭部分內且位置高于真空通路，所述α輻射源的上層正對吸嘴設置。

所述取放吸盤包括取放吸盤主體，所述取放吸盤主體為箱體結構，中部為空腔，其上設有通孔使空腔與外界連通，所述α輻射源設在正對通孔的取放吸盤主體的內底部，取放吸盤主體的側部與真空通路B相連通。

所述凹槽式取放器包括主體部分和連接在主體部分側部的手柄，所述主體部分形狀為一個其上開有凹槽的拍體，其凹槽內底部并排設有若干個端部連接在凹槽側壁上的支撐條，支撐條的另一側的若干個端部與另一相對的凹槽側壁之間留有間隙，α輻射源鋪設在除支撐條外的底部的其余部分上，且其鋪設的高度為支撐條的高度的一半；在支撐條與支撐條之間的凹槽底部設有氣孔，氣孔從主體部分的底部穿過手柄中的孔與外界相連通，形成真空通道，相鄰兩個支撐條之間通過上述留有的間隙相連通，支撐條的上表面與主體部分的上表面相平齊，從而在整個上表面形成一個用來吸附被取放物的吸附面。

所述吸筆包括真空吸嘴、連接部和抽真空裝置，所述α輻射源嵌入真空吸嘴中或嵌入連接部內，所述α輻射源形狀為一個圓環體，其內層對應上述上層，其外層對應上述底層，當α輻射源嵌入連接部內部時，其外層貼附在連接部的內壁上。

本發明提供了α輻射源在取放裝置上的應用，所述α輻射源以特定的放射性同位素Am²⁴¹、Po²¹⁰、Pu²³⁸、Pu²³⁹與金銀復合扎制而成，取放裝置采用的是負壓（真空）拾起物品，正壓放下物品，利用本發明α輻射源產生的α射線直接照射產生的電離直接作用于被取放物的表面，以及取放裝置放下被取放物時的正壓氣流將電離的氣體作用到被取放物的表面，可達到非常好的消除靜電的效果。

附圖說明

圖1為本發明在取放裝置上使用的α輻射源的截面圖。

圖2為本發明α輻射源使用在貼片機的吸頭上的結構示意圖。

圖3為本發明α輻射源使用在取放吸盤上的俯視圖。

圖4為沿圖3的A-A線的剖視圖。

圖5為本發明α輻射源使用在凹槽式取放器上的俯視圖。

圖6為沿圖5的B-B線的剖視圖。

圖7為本發明吸筆的分解結構示意圖。

圖8為本發明α輻射源設在圖7吸筆的真空吸嘴的剖視圖。

圖9為本發明α輻射源設在圖7吸筆的連接部的剖視圖。

具體實施方式