[發明專利]可消除靜電的取放裝置

有效

• 申請號: 201410043954.0
• 申請日: 2014-01-29
• 公開（公告）號: CN103763845B
• 公開（公告）日: 2017-03-22
• 發明（設計）人: 劉斌
• 申請（專利權）人: 劉斌
• 主分類號: H05F3/06
• 分類號: H05F3/06;B25B11/00
• 代理公司: 深圳市中知專利商標代理有限公司44101
• 代理人: 國威

1.一種α輻射源在取放裝置上的應用，其特征在于，用于消除靜電。

2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，所述α輻射源（3）以放射性同位素與金銀復合扎制而成。

3.根據權利要求2所述的應用，其特征在于，

所述α輻射源（3）包括底層（14）、中層和上層（11）；

所述底層（14）為銀,厚度為100μm以上；

所述中層由中間層（12）和包圍在中間層（12）側部周圍的封口層（13）組成，所述中間層（12）為放射性同位素或其氧化物，厚度1-10μm，所述封口層（13）的上下表面與中間層（12）的上下表面平齊，其外側邊緣與底層（14）和上層（11）的外側邊緣對齊，所述封口層（13）為Ni、Ag或Au；

所述上層（11）為金膜，金膜厚度為1-10μm。

4.根據權利要求3所述的應用，其特征在于，所述放射性同位素為Am²⁴¹、Po²¹⁰、Pu²³⁸或Pu²³⁹。

5.根據權利要求4所述的應用，其特征在于，所述α輻射源（3）設置在取放裝置的負壓空腔或真空通路內，或設置在正對于被取放物的凹槽或負壓空腔內。

6.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述取放裝置為貼片機的吸頭、取放吸盤、凹槽式取放器或吸筆。

7.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，所述貼片機的吸頭包括吸嘴（1）和連接在吸嘴（1）上端的貼片頭部分（2），貼片頭部分（2）側部與真空通路A（4）相連通，上述α輻射源（3）設置在貼片頭部分（2）內且位置高于真空通路，所述α輻射源（3）的上層（11）正對吸嘴（1）設置。

8.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，所述取放吸盤包括取放吸盤主體（5），所述取放吸盤主體（5）為箱體結構，中部為空腔，其上設有通孔（51）使空腔與外界連通，所述α輻射源（3）設在正對通孔（51）的取放吸盤主體（5）的內底部，取放吸盤主體（5）的側部與真空通路B（6）相連通。

9.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，所述凹槽式取放器包括主體部分（7）和連接在主體部分（7）側部的手柄（73），所述主體部分（7）形狀為一個其上開有凹槽的拍體，其凹槽內底部并排設有若干個端部連接在凹槽側壁上的支撐條（71），支撐條（71）的另一側的若干個端部與另一相對的凹槽側壁之間留有間隙，α輻射源（3）鋪設在除支撐條（71）外的底部的其余部分上，且其鋪設的高度為支撐條（71）的高度的一半；在支撐條與支撐條之間的凹槽底部設有氣孔（72），氣孔（72）從主體部分（7）的底部穿過手柄（73）中的孔與外界相連通，形成真空通道，相鄰兩個支撐條（71）之間通過上述留有的間隙相連通，支撐條（71）的上表面與主體部分（7）的上表面相平齊，從而在整個上表面形成一個用來吸附被取放物的吸附面。

10.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，所述吸筆包括真空吸嘴（8）、連接部（9）和抽真空裝置（10），所述α輻射源（3）嵌入真空吸嘴（8）中或嵌入連接部（9）內，所述α輻射源（3）形狀為一個圓環體，其內層對應上述上層（11），其外層對應上述底層（14），當α輻射源（3）嵌入連接部（9）內部時，其外層貼附在連接部（9）的內壁上。