[發明專利]光學模塊以及電子設備

有效

• 申請號: 201410042294.4
• 申請日: 2014-01-28
• 公開（公告）號: CN103969727B
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 松下友紀
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G02B5/28
• 分類號: G02B5/28;G02B26/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司11240
• 代理人: 余剛,吳孟秋

1.一種光學模塊，其特征在于，

具備：

第一基板；

第二基板，與所述第一基板相對配置；

第一反射膜，設在所述第一基板上；

第二反射膜，設在所述第二基板上，并與所述第一反射膜相對；

第一控制電極，設在所述第一基板上；

第二控制電極，設在所述第二基板上，并與所述第一控制電極相對；以及

傾斜控制部，使第一控制電流在沿所述第一基板的基板面的第一方向流過所述第一控制電極，并使第二控制電流在沿所述第二基板的基板面且從基板厚度方向觀察到的所述第一基板和所述第二基板的俯視觀察中與所述第一方向方向相反的第二方向流過所述第二控制電極。

2.根據權利要求1所述的光學模塊，其特征在于，

所述第一控制電極和所述第二控制電極之間的間隙尺寸小于所述第一反射膜和所述第二反射膜之間的間隙尺寸。

3.根據權利要求2所述的光學模塊，其特征在于，

所述第一控制電極在所述俯視觀察中設在所述第一反射膜的外側，

所述第二控制電極在所述俯視觀察中設在所述第二反射膜的外側。

4.根據權利要求2所述的光學模塊，其特征在于，

所述第一控制電極在所述俯視觀察中與所述第一反射膜重疊設置，

所述第二控制電極在所述俯視觀察中與所述第二反射膜重疊設置。

5.根據權利要求2所述的光學模塊，其特征在于，

所述第一控制電極和所述第二控制電極中的至少一個控制電極的與另一個控制電極相對的面上設有絕緣膜。

6.根據權利要求1所述的光學模塊，其特征在于，

具備間隙變更部，變更所述第一反射膜和所述第二反射膜之間的間隙尺寸。

7.根據權利要求6所述的光學模塊，其特征在于，

在通過所述間隙變更部變更所述間隙尺寸時，所述傾斜控制部在直到所述間隙尺寸的變動結束為止的期間使所述第一控制電流和所述第二控制電流流過。

8.一種光學模塊，其特征在于，

具備：

導電性的第一反射膜，使入射光的一部分反射一部分透過；

導電性的第二反射膜，與所述第一反射膜相對，使入射光的一部分反射一部分透過；以及

傾斜控制部，使第一控制電流在沿所述第一反射膜的面方向的第一方向流過所述第一反射膜，使第二控制電流在沿所述第二反射膜的面方向且從膜厚方向觀察到的所述第一反射膜和所述第二反射膜的俯視觀察中與所述第一方向方向相反的第二方向流過所述第二反射膜。

9.根據權利要求8所述的光學模塊，其特征在于，

具備：

第一基板，設置有所述第一反射膜；以及

第二基板，設置有所述第二反射膜。

10.根據權利要求8所述的光學模塊，其特征在于，

具備間隙變更部，變更所述第一反射膜和所述第二反射膜之間的間隙尺寸。

11.根據權利要求10所述的光學模塊，其特征在于，

在通過所述間隙變更部變更所述間隙尺寸時，所述傾斜控制部在直到所述間隙尺寸的變動結束為止的期間，使所述第一控制電流和所述第二控制電流流過。

12.根據權利要求8所述的光學模塊，其特征在于，

設有多個所述第一反射膜，這些多個所述第一反射膜電連接，

與多個所述第一反射膜對應地設有多個所述第二反射膜，這些多個所述第二反射膜電連接。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的光學模塊，其特征在于，

具備間隙檢測部，檢測所述第一反射膜和所述第二反射膜之間的間隙尺寸，

所述傾斜控制部根據所述間隙檢測部檢測到的間隙尺寸，控制所述第一控制電流和所述第二控制電流。