[發明專利]一種旋轉靶及濺射裝置

有效

• 申請號: 201410039981.0
• 申請日: 2014-01-27
• 公開（公告）號: CN103789735A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 王東方
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種旋轉靶及濺射裝置。

背景技術

目前，低成本、大面積、高效率地制備薄膜逐漸成為鍍膜領域的發展方向，與之相應的是對大尺寸、高質量的濺射靶材的需求。

與傳統的平面靶相比，旋轉靶可以進行360°的旋轉，可以使旋轉靶的利用率達到80%，而平面靶的利用率僅為20%至30%。并且，采用旋轉靶的濺射設備中的氣體分布均勻，可以使制備的薄膜具有較好的均勻性。同時，旋轉靶還可以實現較高的濺射速率。為了實現大面積地制備薄膜，現有的旋轉靶是由多段旋轉靶材拼接而成的，如圖1a所示，包括：上擋板101、下擋板102、兩擋板之間的支撐體103以及固定在支撐體103上的多段圓筒狀的旋轉靶材104。

對采用上述結構的旋轉靶濺射得到的薄膜進行I-V曲線測量，圖1b和圖1c分別為基板上與拼接處對應的薄膜和與非拼接處對應的薄膜的I-V曲線。在各旋轉靶材旋轉的過程中，由于各旋轉靶材之間的拼接處始終對應基板的同一位置，從比較圖1b和圖1c可以看出，基板上與拼接處對應的薄膜的性能和與非拼接處對應的薄膜的性能存在差別，致使上述結構的旋轉靶的鍍膜質量較差。

因此，如何優化旋轉靶的結構使利用其制備出的膜層的質量更優，是本領域技術人員亟需解決的問題。

發明內容

有鑒于此，本發明實施例提供一種旋轉靶及濺射裝置，用以優化旋轉靶的結構使利用其制備出的膜層的質量更優。

因此，本發明實施例提供了一種旋轉靶，包括：相對而置的上擋板和下擋板，位于所述上擋板與所述下擋板之間的支撐體，以及多段相互緊密連接且包覆在所述支撐體外表面的旋轉靶材，

各所述旋轉靶材的接縫在所述支撐體的旋轉軸的投影為線段。

本發明實施例提供的上述旋轉靶，由于各旋轉靶材的接縫在支撐體的旋轉軸的投影為線段，而不是點，這樣在旋轉靶的旋轉過程中，可以使各旋轉靶材的接縫在基板上的投影來回移動，而不會使各旋轉靶材的接縫始終對應基板的同一位置，從而使在基板上制備的薄膜的表面更均勻且性能一致，使旋轉靶的鍍膜質量得到優化。

較佳地，為了使各旋轉靶材的接縫在基板上移動的區域之間沒有重疊，從而保證在基板上制備的薄膜的均勻性，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，所有投影在所述支撐體的旋轉軸上的所述線段均互不重疊。

進一步地，為了使各旋轉靶材的接縫在基板上的投影在整張基板上來回移動，以使基板上不存在沒有被各旋轉靶材的接縫覆蓋的區域，從而保證在基板上制備的薄膜的均勻性，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，投影在所述支撐體的旋轉軸上的相鄰的兩條所述線段相互連接。

較佳地，為了方便各旋轉靶材之間緊密連接，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，除位于所述支撐體的旋轉軸兩端的所述接縫，其他各所述接縫均圍成一橢圓形的截面。

進一步地，為了便于實施，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，各所述截面與所述支撐體的旋轉軸的夾角均相同。

最佳地，為了便于實施，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，各所述截面相互平行。

一般地，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，各段所述旋轉靶材的材料均相同。

具體地，在本發明實施例提供的上述旋轉靶中，所述旋轉靶材的材料為氧化物或金屬。

本發明實施例還提供了一種濺射裝置，包括本發明實施例提供的上述旋轉靶。

具體地，本發明實施例提供的上述濺射裝置為磁控濺射裝置或反應濺射裝置。

附圖說明

圖1a為現有技術中旋轉靶的結構示意圖；

圖1b和圖1c分別為現有技術中旋轉靶在拼接處對應的薄膜和非拼接處對應的薄膜的I-V曲線；

圖2a-圖2g分別為本發明實施例提供的旋轉靶的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖，對本發明實施例提供的旋轉靶及濺射裝置的具體實施方式進行詳細地說明。

本發明實施例提供的一種旋轉靶，如圖2a-圖2g所示，包括：相對而置的上擋板1和下擋板2，位于上擋板1與下擋板2之間的支撐體3，以及多段相互緊密連接且包覆在支撐體3外表面的旋轉靶材4；

各旋轉靶材4的接縫5在支撐體3的旋轉軸6的投影a為線段。