[發明專利]一種旋轉靶及濺射裝置有效
| 申請號： | 201410039981.0 | 申請日： | 2014-01-27 |
| 公開（公告）號： | CN103789735A | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 王東方 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 黃志華 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 旋轉 濺射 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種旋轉靶，包括：相對而置的上擋板和下擋板，位于所述上擋板與所述下擋板之間的支撐體，以及多段相互緊密連接且包覆在所述支撐體外表面的旋轉靶材，其特征在于：
各所述旋轉靶材的接縫在所述支撐體的旋轉軸的投影為線段。
2.如權利要求1所述的旋轉靶，其特征在于，所有投影在所述支撐體的旋轉軸上的所述線段均互不重疊。
3.如權利要求2所述的旋轉靶，其特征在于，投影在所述支撐體的旋轉軸上的相鄰的兩條所述線段相互連接。
4.如權利要求1-3任一項所述的旋轉靶，其特征在于，除位于所述支撐體的旋轉軸兩端的所述接縫，其他各所述接縫均圍成一橢圓形的截面。
5.如權利要求4所述的旋轉靶，其特征在于，各所述截面與所述支撐體的旋轉軸的夾角均相同。
6.如權利要求5所述的旋轉靶，其特征在于，各所述截面相互平行。
7.如權利要求1-3任一項所述的旋轉靶，其特征在于，各段所述旋轉靶材的材料均相同。
8.如權利要求7所述的旋轉靶，其特征在于，所述旋轉靶材的材料為氧化物或金屬。
9.一種濺射裝置，其特征在于，包括如權利要求1-8任一項所述的旋轉靶。
10.如權利要求9所述的濺射裝置，其特征在于，所述濺射裝置為磁控濺射裝置或反應濺射裝置。
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