[發(fā)明專(zhuān)利]圖像傳感器及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410039762.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-01-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104425523B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金淵秀;魯景旭;諸鍾炫;金都煥 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 愛(ài)思開(kāi)海力士有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/146 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/146;H01L21/8238 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 俞波;毋二省 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像傳感器 及其 制造 方法 | ||
一種圖像傳感器可以包括:襯底,所述襯底具有分別形成在多個(gè)像素上的光電轉(zhuǎn)換區(qū);以及電荷陷阱區(qū),所述電荷陷阱區(qū)與各個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū)重疊,并且針對(duì)每個(gè)相應(yīng)像素而具有不同的深度或厚度。
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)要求2013年9月2日提交的申請(qǐng)?zhí)枮?0-2013-0104760的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán),其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用合并于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及半導(dǎo)體器件的制造,具體而言,涉及一種圖像傳感器及其制造方法。
背景技術(shù)
圖像傳感器是一種用于將光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的器件。圖像傳感器通常被分成電荷耦合器件(CCD)型和CMOS圖像傳感器(CIS)型。圖像傳感器具有以2維矩陣的形式布置的多個(gè)像素。多個(gè)像素中的每個(gè)像素輸出與入射光相對(duì)應(yīng)的像素信號(hào)。像素經(jīng)由由光電二極管表示的光電轉(zhuǎn)換元件來(lái)聚集與入射光相對(duì)應(yīng)的光電荷,并且基于聚集的光電荷來(lái)輸出像素信號(hào)。
暗電流因在圖像傳感器中設(shè)置有光電轉(zhuǎn)換元件的襯底的表面上產(chǎn)生的電荷而引起。暗電流用作像素信號(hào)的噪聲,且因而惡化圖像傳感器的特性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的各種示例性實(shí)施例涉及一種圖像傳感器及其制造方法,可以防止圖像傳感器的特性由于暗電流而惡化。
在本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例中,一種圖像傳感器可以包括:襯底,包括分別形成在多個(gè)像素上的光電轉(zhuǎn)換區(qū);以及電荷陷阱區(qū),與各個(gè)光電轉(zhuǎn)換區(qū)重疊,并且針對(duì)每個(gè)相應(yīng)像素而具有不同的深度和厚度。
在本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例中,一種圖像傳感器可以包括:襯底,所述襯底包括第一像素和第二像素,所述第一像素適用于響應(yīng)于第一波長(zhǎng)頻帶的入射光而產(chǎn)生第一像素信號(hào),所述第二像素適用于響應(yīng)于第二波長(zhǎng)頻帶的入射光而產(chǎn)生第二像素信號(hào);第一光電轉(zhuǎn)換區(qū)和第二光電轉(zhuǎn)換區(qū),分別與第一像素和第二像素相對(duì)應(yīng)而形成襯底上;第一電荷陷阱區(qū),其與第一光電轉(zhuǎn)換區(qū)重疊;以及第二電荷陷阱區(qū),其與第二光電轉(zhuǎn)換區(qū)重疊,其中,第二波長(zhǎng)頻帶的波長(zhǎng)比第一波長(zhǎng)頻帶的波長(zhǎng)短,并且第二電荷陷阱區(qū)的深度或厚度比第一電荷陷阱區(qū)的深度或厚度小。
在本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例中,一種制造圖像傳感器的方法可以包括以下步驟:在具有多個(gè)像素的襯底的正面上與相應(yīng)像素對(duì)應(yīng)地形成光電轉(zhuǎn)換區(qū);通過(guò)向襯底的背面離子注入摻雜劑來(lái)形成摻雜劑注入?yún)^(qū);針對(duì)多個(gè)像素的每個(gè)像素,在襯底的背面上選擇性地形成阻擋圖案;以及利用激光退火以激活摻雜劑注入?yún)^(qū)的摻雜劑來(lái)形成針對(duì)各個(gè)像素而彼此具有不同的深度或厚度的電荷陷阱區(qū)。
根據(jù)本發(fā)明的以上實(shí)施例,圖像傳感器可以通過(guò)具有與輸入至多個(gè)像素中的每個(gè)像素的入射光相對(duì)應(yīng)的深度的電荷陷阱區(qū)來(lái)防止暗電流的產(chǎn)生。圖像傳感器也可以防止圖像傳感器的敏感性因電荷陷阱區(qū)而降低。另外,圖像傳感器可以防止相鄰的像素之間的串?dāng)_。
更進(jìn)一步,激光的反射或透射可以通過(guò)利用選擇性地形成在多個(gè)像素中的每個(gè)像素中的阻擋圖案來(lái)控制,這能夠使得具有不同強(qiáng)度的激光同時(shí)照射多個(gè)相應(yīng)的像素、針對(duì)多個(gè)相應(yīng)的像素容易地形成具有各種深度的電荷陷阱區(qū)、因而制造工藝變得更簡(jiǎn)單且改善制造成品率。
附圖說(shuō)明
圖1是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的圖像傳感器的等效電路圖;
圖2是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的圖像傳感器的像素陣列的平面圖;
圖3是說(shuō)明典型的圖像傳感器的沿著圖2中所示的線(xiàn)A-A’截取的截面圖;
圖4A是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的圖像傳感器的沿著圖2中所示的線(xiàn)A-A’截取的截面圖;
圖4B是說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的圖像傳感器的沿著圖2中所示的線(xiàn)A-A’截取的截面圖;
圖5A至圖5G是說(shuō)明一種制造根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的圖像傳感器的方法的截面圖;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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