[發明專利]超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置

有效

• 申請號: 201410038329.7
• 申請日: 2014-01-27
• 公開（公告）號: CN103762150A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 潘洋;劉成園;齊飛;王健;朱志祥
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: H01J49/10
• 分類號: H01J49/10;H01J49/04;H01J49/02;H01J49/26
• 代理公司: 合肥金安專利事務所 34114
• 代理人: 金惠貞

1.超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，包括質譜機構，所述質譜機構包括相鄰連接的質譜室和電離室，所述質譜室的一側壁上設有后取樣錐，另一側壁上設有質譜室真空泵接口，質譜室內設有離子傳輸系統和質量分析器；所述后取樣錐伸入電離室內，所述電離室的一側設有前取樣錐，另一側設有電離室真空泵接口；其特征在于：所述電離室為光電離室，頂部設有真空紫外光源；還包括超聲霧化機構、加熱氣化機構和揮發溶劑引入機構；所述超聲霧化機構包括超聲耦合室和超聲霧化室，超聲耦合室由隔板分割為上室和下室，下室內設有由壓電陶瓷片、振動片、電子振蕩控制器組成的超聲裝置，超聲裝置的壓電陶瓷片位于上室內的底部，上室內裝有耦合水；所述超聲霧化室為直立的管狀，上端口為敞口狀，下端口由薄膜封口，載氣管的出口端為直角折管狀，從超聲霧化室的一側管壁伸入超聲霧化室內，超聲霧化室的另一側管壁連通著加熱管的一端，待測物溶液設于超聲霧化室內；所述加熱氣化機構包括加熱管和冷凝管，加熱管的外部均布著加熱絲，加熱管的另一端連通著冷凝管的一端，冷凝管的另一端為出口，且所述出口和電離室的前取樣錐相對應，冷凝管呈直立狀；所述揮發溶劑引入機構包括裝有氣相揮發溶劑的容器，頂部設有出氣口和載氣入口，兩者均在揮發溶劑液面以上，且出氣口和載氣入口的直徑均小于容器的直徑，所述出氣口對應位于冷凝管的出口管的管口下方。

2.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：電離室的前取樣錐和質譜室的后取樣錐均在同一水平位置，且相互垂直。

3.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：所述薄膜為聚酯材料薄膜，薄膜包裹在超聲霧化室的下端，并由O形密封圈密封。

4.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：所述耦合水的溫度穩定保持為40℃以下。

5.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：所述冷凝管的管壁上設有上下貫通的冷卻水道，冷卻水道的一端為進水口，另一端為出水口，且進水口和出水口均伸至冷凝管外部，冷凝管的出口連通著引流管的入口端，引流管的出口端和電離室的前取樣錐在同一平面內；直立狀的冷凝管的底部連通著U形水封管。

6.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：超聲霧化室外部的載氣管上設有流量計。

7.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：所述氣相揮發溶劑為丙酮或甲苯。

8.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：真空紫外光源的出光孔垂直于前取樣錐，光電離室的真空度為1～1000Pa。

9.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：質譜室的真空度小于10^-2Pa。

10.根據權利要求1所述的超聲霧化進樣的揮發溶劑輔助電離低壓光電離質譜裝置，其特征在于：加熱管與冷凝管之間的夾角大于90?，小于150?。