[發明專利]X-射線成像空間分布不均勻性的校正方法

有效

• 申請號: 201410036628.7
• 申請日: 2014-01-26
• 公開（公告）號: CN103995010A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 陳建峰
• 申請（專利權）人: 浙江康源醫療器械有限公司
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04
• 代理公司: 杭州華鼎知識產權代理事務所(普通合伙) 33217
• 代理人: 秦曉剛

技術領域

本發明涉及X-射線成像方法。?

背景技術

通常我們的X-射線成像方法是將X-射線源產生的射線直接照射到被探測的物體、然后透射在探測器表面上而生成的像。如果不考慮量子噪聲，理想狀態是當一個X-射線源直接照射到遠離射線源的平板探測器上時，X-射線強度在平板表面的分布是近似均勻的，因此平板探測器接受到該X-射線所成的像是從一個簡單的點光源照射所成的像。但是，實際的X-射線成像，是將射線源放在距離平板探測器相對比較近的范圍內，以保證有足夠的射線強度穿透物體進行投影成像。這時X-射線投影在平板探測器表面的強度分布就會不是均勻了。這種不均勻性由兩方面造成的：一方面是在近距離情況下，由于平板探測器表面接收單元距離射線源不同所形成（射線強度與該距離平方成反比）；另一方面是由于X-射線強度本身隨著射線離開焦點的角度變化而變化的，這稱為Heel效應。Heel效應是由于靠近陽極這一側的部分射線會被陽極靶材料所吸收，因此靠近陽極這一側的射線強度要低于靠近陰極一側的射線強度。例如，對于一個43cmx43cm的平板探測器放置于1米處（如圖1所示）。陰極端的X射線相對強度是105%，而陽極端的X射線相對強度只有70%。兩邊的射線強度差35%。這些射線強度的不均勻性，對實際應用帶來困擾。例如，X-射線所成的像就會出現圖像亮暗不均勻。?

發明內容

本發明所要解決的技術問題就是提供一種X-射線成像空間分布不均勻性的?校正方法，將X-射線所成的像的不均勻性進行修正，從而達到均勻成像的效果。?

為解決上述技術問題，本發明采用如下技術方案：X-射線成像空間分布不均勻性的校正方法，至少包括如下步驟：?

將平板探測器放在位置z₁并正對X-射線源，調節平板探測器每一個像素單元的靈敏度，使得輸出的信號形成一個均勻的圖像；?

將平板探測器移動到位置z₂且仍然正對X-射線源，這時平板探測器就會收到一幀強度不均勻分布圖像；?

將位置z₂上這一幀強度不均勻分布圖像沿X、Y軸采集信號，并將該信號用二次多項式函數進行擬合得到圖像校正系數；?

將平板探測器移動到任何一個待矯正的位置z，通過二次多項式函數及圖像校正系數得到位置z上的均勻圖像。?

優選的，位置z₁為平板探測器距離X-射線源足夠遠的位置z_max>>L，這里L是平板的尺度，位置z₂為平板探測器所需成像最近的距離位置z_min。?

進一步的，位置z上的均勻圖像?

t(x,y)=(1-θx2-θy2)×(1+Aθx+Bθx2)×(1+Cθy+Dθy2),]]>