[發明專利]抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線

無效

• 申請號: 201410033240.1
• 申請日: 2014-01-24
• 公開（公告）號: CN103741111A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 萬志
• 申請（專利權）人: 赫得納米科技（昆山）有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本發明涉及一種抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，尤其是用于光學介質膜和透明導電膜組成的抗反射導電膜，且能夠實現基片裝載連續循環和不間斷生產抗反射導電膜產品的連續式磁控濺射鍍膜生產線。

背景技術

目前工業上制造抗射導電膜的方法有兩種:其一直接購置使用溶膠制備的抗反射膜，再進行透明導電膜鍍膜，形成抗反射膜;其二，采用現有的導電膜濺射鍍膜生產線，先通常反復多次濺射鍍膜，形成抗反射膜和導電膜。但是這兩種方法都存在部分問題:(1)溶膠法制備的抗反射膜工藝復雜，生產成本高；(2)溶膠法制備技術不夠成熟，不能一次完成抗反射膜與導電膜的一次產出；(3)濺射抗反射導電膜沉積速率低，需要反復鍍膜；(4)現有產品有對膜層結構要求繁多，不適合大批量一次連續生產。

發明內容

目的：為了克服現有技術中存在的不足，本發明提供一種抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，適合大批量生產，成本較低，濺射沉積速率較高，制程工藝通用性好；可以廣泛用于顯示面板玻璃的抗反射導電膜連續磁控濺射生產。?

技術方案：為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案為：

一種抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：包括真空腔室區，所述真空腔室區包括依次排列相連通的第一預初軸腔室、第一過渡腔室、第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室、第一隔離腔室、第二隔離腔室、第一導電膜鍍膜腔室、第二導電膜鍍膜腔室、第二過渡腔室、第二預初軸腔室；所述第一預初軸腔室、第一過渡腔室、第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室、第一隔離腔室、第二隔離腔室、第一導電膜鍍膜腔室、第二導電膜鍍膜腔室、第二過渡腔室、第二預初軸腔室相鄰腔室之間均設置有可開啟或關閉的隔離門，所述第一預初軸腔室入片口處設置上片升降區，所述第二預初軸腔室出片口處設置下片升降區；真空腔室區內部設置貫穿連續的多個基片載具傳送軸，所述基片載具傳送軸一端穿過真空腔室壁與伺服傳動馬達相接驅動。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述基片載具傳送軸上對稱設置有兩個基片載具傳動輪,?靠近真空腔室區內壁兩側對稱設置有基片載具導向輪。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：還包括多個機架；所述第一預初軸腔室、第一過渡腔室、第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室、第一隔離腔室、第二隔離腔室、第一導電膜鍍膜腔室、第二導電膜鍍膜腔室、第二過渡腔室、第二預初軸腔室底部均設置有機架來支撐固定；所述機架上設置有回轉傳動組。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述機架底部設置有地腳脖用以調整機架高度。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述機架底側橫向設置有一底桿，底桿底側設置有便于移動的滑輪。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述真空腔室區與真空泵組通過抽真空閥組相連通。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室設置有氬氣充氣口。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室內設置有孿生磁控濺射靶；每對孿生靶配置四支制程進氣管路。

所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：第一預初軸腔室和第二預初軸腔室分別連接抽氣系統。

有益效果：本發明提供的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，能夠實現基片裝載連續循環和不間斷生產抗反射導電膜產品；適合大批量生產，成本較低，濺射沉積速率較高，制程工藝通用性好；可以廣泛用于顯示面板玻璃的抗反射導電膜連續磁控濺射生產；1、具有獨立的介質膜鍍膜腔室:第一介質膜鍍膜腔室，第二介質膜鍍膜腔室，且可以布置4對孿生磁控濺射靶，每對孿生靶配置四支制程進氣管路，可以實現優質介質膜的鍍膜，如:氧化鈦(TIO2)，氧化硅(SIO2)混合鍍膜；2、各制程腔室均有效地進行了真空氣體隔離，可以不同速度，不同真空環境，不同的濺射工藝實現鍍膜生產工藝。適合大批量生產，與工藝調整。可以實現快節奏批量，生產效率高；3、有獨立的導電膜鍍膜腔室，可以生產大部分導電膜。如氧化銦錫(ITO)，氧化鋅(ZnO)，氧化銦(IN2O3)，氧化錫(SNO2)等。適合用于顯示面板，太陽能面板的透明導電膜，抗反射膜，高反射膜的鍍膜生產。

附圖說明

圖1為本發明抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線的布局圖；

圖2為本發明抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線的正面圖；