[發明專利]抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線

無效

• 申請號: 201410033240.1
• 申請日: 2014-01-24
• 公開（公告）號: CN103741111A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 萬志
• 申請（專利權）人: 赫得納米科技（昆山）有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：包括真空腔室區，所述真空腔室區包括依次排列相連通的第一預初軸腔室、第一過渡腔室、第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室、第一隔離腔室、第二隔離腔室、第一導電膜鍍膜腔室、第二導電膜鍍膜腔室、第二過渡腔室、第二預初軸腔室；所述第一預初軸腔室、第一過渡腔室、第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室、第一隔離腔室、第二隔離腔室、第一導電膜鍍膜腔室、第二導電膜鍍膜腔室、第二過渡腔室、第二預初軸腔室相鄰腔室之間均設置有可開啟或關閉的隔離門，所述第一預初軸腔室入片口處設置上片升降區，所述第二預初軸腔室出片口處設置下片升降區；真空腔室區內部設置貫穿連續的多個基片載具傳送軸，所述基片載具傳送軸一端穿過真空腔室壁與伺服傳動馬達相接驅動。

2.根據權利要求1所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述基片載具傳送軸上對稱設置有兩個基片載具傳動輪,?靠近真空腔室區內壁兩側對稱設置有基片載具導向輪。

3.根據權利要求1或2所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：還包括多個機架；所述第一預初軸腔室、第一過渡腔室、第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室、第一隔離腔室、第二隔離腔室、第一導電膜鍍膜腔室、第二導電膜鍍膜腔室、第二過渡腔室、第二預初軸腔室底部均設置有機架來支撐固定；所述機架上設置有回轉傳動組。

4.根據權利要求3所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述機架底部設置有地腳脖用以調整機架高度。

5.根據權利要求4所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述機架底側橫向設置有一底桿，底桿底側設置有便于移動的滑輪。

6.根據權利要求1所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述真空腔室區與真空泵組通過抽真空閥組相連通。

7.根據權利要求1所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室設置有氬氣充氣口。

8.根據權利要求1所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：所述第一介質膜鍍膜腔室、第二介質膜鍍膜腔室內設置有孿生磁控濺射靶；每對孿生靶配置四支制程進氣管路。

9.根據權利要求1所述的抗反射導電ITO膜連續鍍膜生產線，其特征在于：第一預初軸腔室和第二預初軸腔室分別連接抽氣系統。