[發明專利]一種硅基襯底擴散片的清洗方法

有效

• 申請號: 201410031525.1
• 申請日: 2014-01-23
• 公開（公告）號: CN103779256A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 田迎新;鄭偉;劉俊飛;段學穎
• 申請（專利權）人: 英利能源（中國）有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;B08B3/10
• 代理公司: 石家莊國為知識產權事務所 13120
• 代理人: 張二群

1.一種硅基襯底擴散片的清洗方法，其特征在于包括如下步驟：

第一步、將需要清洗的硅基襯底擴散片浸泡到HF+HNO₃混合的第一混合液中，持續時間約30～45分鐘，第一混合液中兩種酸的體積混合比例為HF：HNO₃=20～25:1；

第二步、將上述浸泡完的擴散片取出再浸泡到HF+HNO₃混合的第二混合液中，持續時間為5～10分鐘，第二混合液中兩種酸的體積混合比例為HF：HNO₃=1:20～30；

第三步、將從第二步反應后的擴散片放入電導率為14兆～16兆的純水中進行溢流漂洗，并加入壓縮空氣進行鼓泡，以便于片中存留的酸溶液漂洗干凈，漂洗到純水的PH值為7；

第四步、烘干擴散片；

在上述步驟中HF的酸濃度為40%±2%，HNO₃的酸濃度為65%±4%。

2.根據權利要求1所述的一種硅基襯底擴散片的清洗方法，其特征在于所述第一混合液中兩種酸的體積混合比例為：HF：HNO₃=20～23:1。

3.根據權利要求1所述的一種硅基襯底擴散片的清洗方法，其特征在于所述第二混合液中兩種酸的體積混合比例為：HF：HNO₃=1:28～30。

4.根據權利要求1所述的一種硅基襯底擴散片的清洗方法，其特征在于上述步驟在常溫狀態下進行。

5.根據權利要求1所述的一種硅基襯底擴散片的清洗方法，其特征在于當第一步或第二步中產生的NO₂影響操作時，在相應步驟中的第一混合酸或第二混合酸中加入水。

6.根據權利要求1-5中任意一項所述的一種硅基襯底擴散片的清洗方法，其特征在于所述第四步的具體操作方法為：將漂洗干凈的擴散片放在托盤上平鋪開推入烘箱，升溫到90-100℃，進行烘干。