[發(fā)明專利]磁控濺射鍍膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410029234.9 | 申請日: | 2014-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN103789739A | 公開(公告)日: | 2014-05-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王魯南;王建華;竇立峰 | 申請(專利權)人: | 南京匯金錦元光電材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 王清義 |
| 地址: | 210046 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁控濺射 鍍膜 裝置 | ||
1.磁控濺射鍍膜裝置,包括多個真空腔體,相鄰兩腔體之間以隔板分隔,其特征是:隔板兩側壁上均開有v形槽,兩個v形槽的頂端相對;把相鄰兩腔體連通的板縫開在兩v形槽的頂端之間;在v形槽處設置有兩個隔離條,隔離條沿著v形槽的長度方向延伸,兩個隔離條位于v形槽對稱軸的兩側,隔離條與v形槽斜側面相對的表面為與v形槽斜側面相平行的斜面,兩個隔離條相對的平面相互平行;在v形槽的長度方向上,板縫的長度小于隔離條長度,隔離條長度小于v形槽長度;隔離條與驅動裝置相連;兩個隔離條在驅動裝置帶動下移動時,隔離條的斜面與v形槽的斜側面接觸并在斜側面的導向下,兩個隔離條相對移動,兩個隔離條相對的平面相接觸。
2.如權利要求1所述的磁控濺射鍍膜裝置,其特征是:兩個隔離條之間設置有常態(tài)時使得兩個隔離條相對的平面相互分離的彈性裝置。
3.如權利要求1所述的磁控濺射鍍膜裝置,其特征是:驅動裝置包括能夠沿著v形槽的對稱軸移動的前后移動裝置,兩端分別與隔離條和前后移動裝置鉸接的連桿。
4.如權利要求3所述的磁控濺射鍍膜裝置,其特征是:兩個連桿之間設置有常態(tài)時使得連接在連桿上的兩個隔離條相對的平面相互分離的彈性裝置。
5.如權利要求1所述的磁控濺射鍍膜裝置,其特征是:隔離條以彈性材料制成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





