[發明專利]一種新型浮法拋光設備及拋光方法

在審

• 申請號: 201410020162.1
• 申請日: 2014-01-16
• 公開（公告）號: CN103737452A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 王成
• 申請（專利權）人: 王成
• 主分類號: B24B13/00
• 分類號: B24B13/00;B24B1/00
• 代理公司: 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411
• 代理人: 鄭自群

技術領域

本發明涉及光學零件研磨拋光領域，特別是指一種新型浮法拋光方法。

背景技術

光學零件的加工基本包括切割成型、研磨、拋光三道工序；最終的光學表面質量由拋光決定，因此拋光是最重要的工序。通常高質量光滑表面的拋光是以柏油或毛氈呢絨等纖維材料作拋光盤，配以拋光液或研磨膏來達到技術要求。

光學薄膜技術是光學領域里的一項重要組成部分，涵蓋了計算機，真空技術，光電技術，材料科學等各方面領域，而光學基片的粗糙度優和差，會直接影響后一步的膜層鍍制工作。光學薄膜分為單層，雙層，多層等。現在隨著科學的進步，已有鍍制幾十層至上百層的薄膜。而原有的光學拋光技術及傳統設備只能解決單層，雙層及多層薄膜鍍制，當前因為科技的進步，社會的發展，對光學元件的表面粗糙度也提出了更高的要求。但我們現有的拋光技術及傳統工藝設備，所加工光學元件的表面粗糙度很難達到現代光學，電子光學等新領域里的更高的技術要求，然而普通拋光后的光學元件，其邊緣幾何尺寸總不太好，經常有塌邊或翹邊現象；并且在高倍顯微鏡下可以看到表面有塑性畸變層。

發明內容

本發明提出一種新型浮法拋光方法，解決了現有技術中普通拋光方法質量差、效率低的問題。

本發明的技術方案是這樣實現的：

一種新型浮法拋光設備，包括機架，機架上設置有用于放置拋光液的拋光盤、工件架、磨盤和工件，工件固定在工件架上方，拋光液將工件和磨盤下表面浸沒，拋光盤與工件之間形成一層拋光液膜，拋光機上還設置轉軸，轉軸固定設置在磨盤中心，并與機架連接，使拋光盤與磨盤同速運轉，拋光盤設有供液孔。

優選的，機架為鐵質機架，并為箱體式結構。

優選的，拋光盤為金屬基體表面涂覆金屬錫的拋光盤，直徑為600mm，厚度為20-30mm。

一種新型浮法拋光方法，包括以下步驟：

（1）將拋光粉加干凈水調成拋光液，拋光粉為顆粒度為1000目的氧化鈰，所述拋光液的PH值為5.5～7；

（2）把待拋光工件輕放在磨盤上，保證待拋光工件與磨盤表面相吻合；

（3）將拋光液倒入拋光盤中，拋光液將待拋光工件和磨盤下表面浸沒；

（4）將拋光盤的壓力設置為0.07～0.12Mpa，磨盤轉速設置為10～30rpm，拋光液自動循環供給進行拋光；

（5）拋光完成后取出，清洗封裝。

優選的，步驟（5）的清洗是用清水和無水乙醇混合液依次進行清洗。

優選的，在步驟（4）拋光過程中，磨盤速度成階段遞減速度運行。

本發明的有益效果為：

本浮法超光滑拋光技術就可以解決幾十層，上百層薄膜的鍍制難題，使生產產品時間比原來縮短3-5小時，產品合格率95%以上，比傳統工藝做的產品合格率提高了20%-30%，并充分考慮到了減緩切向力，讓拋光液在光學元件的拋光過程中的水解作用，在表面形成硅酸膠層，充分發揮了拋光盤膜層的化學作用，拋光劑的吸附作用。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明一種新型拋光設備的平面結構示意圖；

圖2為本發明一種新型拋光方法的流程圖。

圖中：

1、機體；2拋光盤、；3、拋光液；4、拋光盤表面溝槽；5、工件；6、拋光液膜。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

如圖1所示，在對工件5如光學元件進行浮法拋光前，被加工的光學元件首先要進行預拋光，干燥，然后進行浮法拋光。