[發明專利]成膜方法和成膜裝置

有效

• 申請號: 201410019338.1
• 申請日: 2014-01-16
• 公開（公告）號: CN103924220B
• 公開（公告）日: 2017-06-06
• 發明（設計）人: 加藤壽;中坪敏行;三浦繁博
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/455
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,張會華

1.一種成膜方法，用于對基板進行成膜，其中，

該成膜方法包括以下步驟：

輸入步驟，其使沿圓周方向具有多個基板載置部的旋轉臺間歇性地旋轉而將多個上述基板載置部依次配置于輸入輸出區域，并將基板依次載置于所配置的上述基板載置部；

成膜步驟，反復多次進行通過使上述旋轉臺旋轉而使上述基板公轉、并且將彼此反應的反應氣體交替向基板表面供給的循環，而在基板上層疊上述反應氣體的反應生成物，從而在基板表面上形成薄膜；

改性步驟，對通過使上述旋轉臺間歇性地旋轉而被依次配置在與上述輸入輸出區域相鄰的加熱區域中的基板分別加熱，對上述薄膜進行改性；以及

輸出步驟，接著改性步驟，通過間歇性地旋轉上述旋轉臺，將在上述改性步驟中改性了上述薄膜的基板依次配置在上述輸入輸出區域，并將所配置的基板依次輸出，

其中，在上述改性步驟中，對上述多個基板中的一個基板進行加熱而進行改性，接著旋轉上述旋轉臺而將與上述一個基板相鄰的另一個基板配置于上述加熱區域，接著對所配置的上述另一個基板進行改性，

在上述輸出步驟中，在利用上述改性步驟對上述另一個基板進行改性的期間，將在該改性步驟中改性了的上述一個基板輸出。

2.根據權利要求1所述的成膜方法，其中，

在上述改性步驟中，使用被配置于上述旋轉臺的上方的加熱燈來向該旋轉臺照射光，從而將上述旋轉臺的局部區域作為上述加熱區域來進行加熱。

3.根據權利要求2所述的成膜方法，其中，

在上述改性步驟中，將配置于上述加熱區域的基板向上方移動，在使該基板接近上述加熱燈之后照射上述光。

4.一種成膜裝置，其中，

該成膜裝置包括：

旋轉臺，其在上表面具有用于將多個基板以沿著圓周方向排列的方式載置的多個基板載置部；

第1氣體供給部，其配置于上述旋轉臺的上方的第1處理區域，用于向上述多個基板供給第1反應氣體；

第2氣體供給部，其配置于在上述旋轉臺的圓周方向與上述第1處理區域分開的第2處理區域，用于向上述多個基板供給第2反應氣體；

分離氣體供給部，其設置于上述第1處理區域和上述第2處理區域之間，用于對上述上表面供給分離氣體；以及

分離區域，其與上述上表面之間形成有狹窄空間，該狹窄空間用于將供給來的上述分離氣體向上述第1處理區域和上述第2處理區域引導，

上述第2處理區域包括：輸入輸出區域，其用于將基板載置到上述旋轉臺；加熱區域，其與上述輸入輸出區域相鄰地配置，為了對基板表面的薄膜進行改性而加熱基板，

其中，在上述第2處理區域中，在上述加熱區域中對上述多個基板中的一個基板進行改性時，從上述輸入輸出區域將已經改性過的另一個基板輸出。