[發(fā)明專利]一種大面積轉(zhuǎn)移CVD石墨烯膜的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410018825.6 | 申請日: | 2014-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN103833030A | 公開(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃長水;張圣亮;崔光磊;張傳健;逄淑平;韓鵬獻(xiàn) | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院青島生物能源與過程研究所 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04;B32B9/04;B32B27/00 |
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| 地址: | 266101 山東省青*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 大面積 轉(zhuǎn)移 cvd 石墨 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種大面積轉(zhuǎn)移CVD石墨烯膜的方法,具體涉及利用熱輥壓的方法直接將石墨烯膜轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基底。
背景技術(shù)
石墨烯,是一種由碳原子構(gòu)成的具有蜂窩狀晶格的單層二維平面結(jié)構(gòu)材料。由于其具有高的載流子遷移率(200000?cm2V-1s-1)和導(dǎo)熱率(3000-5000?Wm-1K-1)、高透光性(97.7%)和良好的化學(xué)穩(wěn)定性等,在電子器件、透明電極材料、儲能材料、功能復(fù)合材料等眾多領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
在各種制備石墨烯的典型方法中,化學(xué)氣相沉積(CVD)法因其可以生長大面積、高質(zhì)量的石墨烯膜而越來越受到重視。然而通過CVD法制備的石墨烯膜通常附著于金屬基底上,需要進(jìn)行后續(xù)的過程將其轉(zhuǎn)移到其它基底上才能應(yīng)用于實(shí)際需求中。理想的轉(zhuǎn)移過程應(yīng)當(dāng)保持石墨烯膜清潔、完整無損壞并且大面積轉(zhuǎn)移。目前公開的常用轉(zhuǎn)移方法是以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)為介質(zhì)的濕法轉(zhuǎn)移技術(shù),即首先在石墨烯表面旋涂一層PMMA,然后在金屬腐蝕液中將金屬基底腐蝕掉,再將覆蓋有PMMA的石墨烯層轉(zhuǎn)移到二氧化硅等基底上,然后用溶劑除去PMMA,從而得到附著在目標(biāo)基底上的石墨烯。或者在這種濕法轉(zhuǎn)移的基礎(chǔ)上改進(jìn),通過其它有機(jī)膠體涂覆,輔助轉(zhuǎn)移到其它基底上;通過等離子體清除金屬基底的一側(cè),然后將金屬基底平鋪在目標(biāo)基底上,濕法腐蝕掉金屬基底等方法轉(zhuǎn)移石墨烯。大面積石墨烯的轉(zhuǎn)移則是由韓國Bae等人提出的,該方法首先在石墨烯表面輥壓一層熱釋膠帶,然后用金屬腐蝕液將金屬腐蝕掉,再將附有熱釋膠帶的石墨烯層轉(zhuǎn)移到其他基底上,最后在一定溫度下去除熱釋膠帶。上述兩種方法在轉(zhuǎn)移過程中都使用了有機(jī)膠體作為過渡基底輔助轉(zhuǎn)移,轉(zhuǎn)移到目標(biāo)基底后需要去除這層有機(jī)基底,不可避免產(chǎn)生殘留對石墨烯層造成污染,并且都需要將金屬基底腐蝕掉,產(chǎn)生大量的重金屬廢液,浪費(fèi)水資源,產(chǎn)生環(huán)境污染,增加制備成本,因此發(fā)明一種金屬基底可以循環(huán)利用、環(huán)境友好的直接轉(zhuǎn)移方法非常重要。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明的目的在于提出一種大面積快速轉(zhuǎn)移CVD石墨烯膜的方法,可降低轉(zhuǎn)移過程中對石墨烯的污染和破壞,減少環(huán)境污染排放,并且使金屬基底能夠循環(huán)利用,從而降低生產(chǎn)成本。所述生長轉(zhuǎn)移工藝如下:
a.?利用CVD的方法在金屬箔基底上制備石墨烯膜,生長的石墨烯為不同層數(shù)的石墨烯。
b.?在長有石墨烯膜的金屬箔基底的兩個表面熱輥壓一層高分子膜,包括PET、PC、PI、PVC、PS、PE、PP膜。將高分子膜/石墨烯復(fù)合膜前段卷纏在輥軸上,用于下一步的卷繞。采用輥壓的方式將附有高分子膜的石墨烯層卷繞在輥軸上。通氣體(空氣、氧氣、氯化氫、氮?dú)狻鍤獾?輔助,使石墨烯與金屬基底相接觸的活性金屬層與氣體發(fā)生部分反應(yīng),實(shí)現(xiàn)石墨烯從金屬箔基底上剝離,同時通過輥軸滾動,收集剝離的高分子膜/石墨烯復(fù)合膜。金屬基底另外收集再次利用。
c.或者先將高分子膜熱輥壓到兩個輥軸的表面,然后將長有石墨烯膜的金屬箔基底熱輥壓到附有高分子膜的輥軸上,在一定壓力和溫度的條件下,通氣體(空氣、氧氣、氯化氫、氮?dú)狻鍤獾?輔助,使石墨烯與金屬基底相接觸的活性金屬層與氣體發(fā)生部分反應(yīng),實(shí)現(xiàn)石墨烯從金屬箔基底上剝離。通過高分子膜與石墨烯的相互作用,協(xié)助石墨烯層與金屬箔基底的分離和收集。
d.?得到轉(zhuǎn)移到高分子膜上的石墨烯復(fù)合膜或者單一的石墨烯膜。通過上述方法可以一步得到直接與特定高分子膜相復(fù)合的石墨烯膜,也可以得到單一的石墨烯膜,減少了中間轉(zhuǎn)移環(huán)節(jié)。可用于直接制備石墨烯基特種復(fù)合膜。
附圖說明
圖1?利用化學(xué)氣相沉積(CVD)的方法在金屬箔表面生長的石墨烯圖。
圖2?利用熱輥壓的方法在長有石墨烯層的金屬箔表面輥壓一層高分子膜。
圖3?在通氣體輔助的條件下利用熱輥壓的方法剝離石墨烯圖。
圖4?獲得的轉(zhuǎn)移到高分子膜基底上的石墨烯圖。
圖5?附有高分子膜的輥軸圖。
圖6?采用熱輥壓的方法直接將石墨烯層輥壓到附有高分子膜的輥軸圖。
圖7?獲得的轉(zhuǎn)移到附有高分子膜的石墨烯圖。
圖8?高分子膜PET/石墨烯復(fù)合膜實(shí)物圖。
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例,對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。
實(shí)施例一:
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